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多功能磁控溅射仪(溅射、热蒸发、电子束蒸发)

技术参数腔体尺寸: Ø300mm,400mm高；泵体:260l/s Turbo泵,含有泵前过滤膜；蒸发方式: 用户可选择热蒸发(boat evaporation or crucible), 电子束蒸发或溅射蒸发；样品夹具: 多类型,有rotation, heating, cooling, biasing；样品尺寸可到Ø250mm,或者多个小样品；设备大小:一般 495 X 555 X 1302毫米；

主要特点

此系统包含大多数的真空薄膜镀层技术: 热蒸发(boat evaporation or crucible)，电子束蒸发，溅射沉积。

这样我们在一台设备上可以灵活运用多种膜生长技术,针对各种不同大小和形状的样品,非常方便切换沉积模式。

腔体的开放式设计,使得样品大小从几毫米到250毫米均可镀层。样品夹具可以轻松固定多个样品并同时镀膜。此系统真空腔内连接一个300mm宽的快速通道门,可以非常方便和快速地切换样品和靶源。这对于薄膜制备研究机构,面对多种材料增加或改变沉积方式,转换起来非常方便,并没有任何空间限制。

此系统为模块式设计,可以针对用户的具体应用来订制设计结构。

仪器介绍

在所有的小型高真空镀膜设备中,此设备功能强大,性能价格比非常好。

镀膜方式包含了热蒸发,电子束蒸发和磁控溅射沉积。

由于它的模块化设计,使得多数研发人员用起来非常方便,针对各种样品易于转换沉积条件,是研究人员不可获缺的镀膜工具!

NPGS美国电子束曝光系统(纳米图形发生系统)（南京覃思）

电子束曝光系统（electron beam lithography, EBL）是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近，美国JC Nabity Lithography Systems公司成功研发了基于改造商品SEM、STEM或FIB的电子束曝光装置（Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统，简称NPGS，又称电子束微影系统）。电子束曝光技术具有可直接刻画精细图案的优点，且高能电子束的波长短（< 1 nm），可避免绕射效应的困扰，是实验室制作微小纳米电子元件理想选择。相对于购买昂贵的用电子束曝光机台，以既有的SEM等为基础，外加电子束控制系统，透过电脑介面控制电子显微镜中电子束之矢量扫描，以进行直接刻画图案，在造价方面可大幅节省，且兼具原SEM 的观测功能，在功能与价格方面均具有优势。由于其具有高分辨率以及低成本等特点，在北美研究机构中，JC Nabity的NPGS是非常热销的配套于扫描电镜的电子束微影曝光系统，而且它的应用在各地越来越广泛。NPGS的技术目标是提供一个功能强大的多样化简易操作系统，结合使用市面上已有的扫描电镜、扫描透射电镜或聚焦离子束装置，用来实现艺术的电子束或离子束平版印刷技术。NPGS能成功满足这个目的，得到了当众多用户的强烈推荐和一致肯定。一. 技术描述：为满足纳米电子束曝光的要求，JC Nabity的NPGS系统设计了一个纳米图形发生器和数模转换电路，并采用PC机控制。PC机通过图形发生器和数模转换电路去驱动SEM等仪器的扫描线圈，从而使电子束偏转并控制束闸的通断。通过NPGS可以对标准样片进行图像采集以及扫描场的校正。配合精密定位的工件台，还可以实现曝光场的拼接和套刻。利用配套软件也可以新建或导入多种通用格式的曝光图形。（一）电子源（Electron Source）曝照所需电子束是由既有的SEM、STEM或FIB产生的电子束（离子束）提供。（二）电子束扫描控制（Beam Scanning Control）电子射出后，受数千乃至数万伏特之加速电压驱动沿显微镜中轴向下移动，并受中轴周围磁透镜（magnetic lens）作用形成聚焦电子束而对样本表面进行扫描与图案刻画。扫描方式可分为循序扫描（raster scan）与矢量扫描（vector scan）。循序扫描是控制电子束在既定的扫描范围内进行逐点逐行的扫描，扫描的点距与行距由程式控制，而当扫描到有微影图案的区域时，电子束开启进行曝光，而当扫描到无图案区域时，电子束被阻断；矢量扫描则是直接将电子束移动到扫描范围内有图案的区域后开启电子束进行曝光，所需时间较少。扫描过程中，电子束的开启与阻断是由电子束阻断器（beam blanker）所控制。电子束阻断器通常安装在磁透镜组上方，其功效为产生一大偏转磁场使电子束完全偏离中轴而无法到达样本。（三）阻剂（光阻）阻剂（resist）是转移电子束曝照图案的媒介。阻剂通常是以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。高能电子束的照射会改变阻剂材料的特性，再经过显影（development）后，曝照（负阻剂）或未曝照（正阻剂）的区域将会留在基材表面，显出所设计的微影图案，而后续的制程将可进一步将此图案转移到阻剂以下的基材中。PMMA（poly-methyl methacrylate）是电子束微影中很常用的正阻剂，是由单体甲基丙烯酸甲酯（methyl methacrylate, MMA）经聚合反应而成。用在电子阻剂的PMMA 通常分子量在数万至数十万之间，受电子束照射的区域PMMA 分子量将变成数百至数千，在显影时低分子量与高分子量PMMA 溶解度的对比非常大。负阻剂方面，多半由聚合物的单体构成。在电子束曝照的过程中会产生聚合反应形成长链或交叉链结（crosslinking）聚合物，所产生的聚合物较不易被显影液溶解因而在显影后会留在基板表面形成微影图案。目常用的负阻剂为化学倍增式阻剂（chemically amplified resist），经电子束曝照后产生氢离子催化链结反应，具有高解析度、高感度，且抗蚀刻性高。（四）基本工序电子束微影曝光技术的基本工序与光微影曝光技术相似，从上阻、曝照到显影，各步骤的参数（如温度、时间等等）均有赖于使用者视需要进行校对与调整。二. 主要技术指标：型号：NPGS细线宽（μm）：根据SEM小束斑（μm）：根据SEM扫描场：可调加速电压：根据SEM，一般为0-40kV速度：5MHz（可选6MHz）A. 硬件：微影控制介面卡：NPGS PCI-516A High Speed Lithography Board，high resolution （0.25%）控制电脑：Pentium IV 3.0GHz/ 512Mb RAM/ 80G HD/ Windows XP皮可安培计：KEITHLEY 6485 PicoammeterB. 软件：微影控制软件 NPGS V9.1 for Windows2000 或 XP 图案设计软件 DesignCAD LT 2000 for Windows三. 应用简述NPGS电镜改装系统能够制备出具有高深宽比的微细结构纳米线条，从而为微电子域如高精度掩模制作、微机电器件制造、新型IC研发等相关的微/纳加工技术提供了新的方法。NPGS系统作为制作纳米尺度的微小结构与电子元件的技术平台，以此为基础可与各种制程技术与应用结合。应用范围和域取决于客户的现有资源，例如： NPGS电子束曝光系统可与等离子应用技术做很有效的整合，进行各项等离子制程应用的开发研究，简述如下：（一）半导体元件制程等离子制程已广泛应用于当半导体元件制程，可视为电子束微影曝光技术的下游工程。例如：（1）等离子刻蚀（plasma etching）（2）等离子气相薄膜沉积（plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD）（3）溅镀（sputtering）（二）微机电元件制程（Semiconductor Processing）微机电元件在制程上与传统半导体元件制作有其差异性。就等离子相关制程而言，深刻蚀（deep etching）是主要的应用，其目标往往是完成深宽比达到102 等的深沟刻蚀或晶圆穿透刻蚀。而为达成高深宽比，深刻蚀采用二种气体等离子交替的过程。刻蚀完成后可轻易以氧等离子去除侧壁覆盖之高分子。在微机电元件制作上，深刻蚀可与电子束微影曝光技术密切结合。电子束微影曝光技术在图案设计上之自由度十分符合复杂多变化的微机电元件构图。一旦完成图案定义，将转由深刻蚀技术将图案转移到晶圆基板。

该公司产品分类：图像分析细胞分析仪电镜制样电子显微镜

电子束实验仪

一，用途及实验内容：

1，实验一：电偏传-电子束+横向电场

2，实验二：电聚焦-电子束+纵向电场

3，实验三：磁偏传-电子束+横向磁场

4，实验四：螺旋运动、磁聚焦-电子束+纵向磁场

二，主要技术规格

1、示波管

　　聚焦电压：280～380V加速电压：950～1300V

　　偏转电压：-50～+50V

　　Y轴电偏转灵敏度>0.7mm/V

　　Y轴偏转灵敏度>0.3mm/mA

2、适应电源： 220V 50Hz

3、消耗功率：50W

4、外形尺寸：55×385×200 （180）mm

5、总重量：10kg

该公司产品分类：轴承残磁测定仪CJZ-3 轴承残磁测定仪CJZ-3 近代物理实验仪器采暖通风与空调制冷流体力学类实验仪器热工类实验仪器燃气工程类实验仪器演示实验仪器磁测量实验仪器电磁学实验仪器光学及综合实验仪器力热实验仪器

美国Temescal公司电子束蒸发镀膜系统

产品概述

美国Temescal公司成立于1952年，是真空电子束蒸镀技术的领导者，提供最先进的精密镀膜系统以及电子枪组件。Temescal在精确控制材料蒸气云分布方面拥有丰富的经验与独到的技术，典型材料如钛、铂、金、钯、银、镍、铝、铬、铜、钼、锡、二氧化硅、氧化铟锡，可获得优异的薄膜沉积均匀性和一致性。Temescal总部在美国加州，拥有独立完善的设计、制造、销售和研发部门，其关键技术优势着重体现于成套沉积系统和电子枪组件。在高亮度LED、GaAs基无线通信芯片、光通讯器件、太阳能光伏、微机械（MEMS）和声表器件（SAW）等领域拥有很高的声誉和众多著名用户。Temescal完美的工艺实现能力包括：高均匀性多层膜系工艺设计，最先进的大功率电子枪及控制电源，无死角操作的双开门设计，洁净无油真空系统，多种精密工件架，全自动薄膜工艺控制系统，等等。

产品特点

1. 业内独有的真空锁式批量蒸镀系统2. 整个电子束蒸发源可与腔室分离并转到设备框架之外3. 高性能电子枪和控制器4. 所有OEM组件均来自世界一流供应商5. 丰富的剥离（Lift-off）工艺经验6. 高均匀性和高材料利用率7. 可靠灵活的全自动控制系统8. 设备性能完全满足24/7的严格的FAB生产要求9. 专业的工艺研发和技术支持

技术参数

主要型号1. FC4400Temescal最大型标准系统，真空锁结构设计，适合150mm以上基片工艺的产能最大化要求2. FC3800Temescal大型标准系统，真空锁结构设计，适合各种高产能应用要求3. FC/BCD2800Temescal中型生产设备，真空锁结构可选，适合100mm~150mm晶圆工艺生产4. FC/BJD2000Temescal小型标准系统，尤其适合小规模生产和研发

设备产能

设备型号	FC/BJD-2000	FC/BCD-2800	FC-3800	FC-4400
2inch 晶圆	42	N/A	N/A	N/A
3inch 晶圆	17	47	N/A	N/A
100mm晶圆	13	25	53	55
150mm晶圆	5	12	25	30
200mm晶圆	N/A	6	14	15

主要应用

• 高亮度 LED

• 无线通信 Wireless infrastructure

• 微机电 MEMS

• 表面声波器件 SAW

联系人：张先生 139- （#qq.com）

该公司产品分类：微波等离子CVD 扩散炉离子束刻蚀/沉积系统多功能薄膜沉积系统电子束蒸发镀膜机表面缺陷检测系统精密激光加工系统平行缝焊机清洗机贴片机键合机真空共晶回流焊炉超声波扫描显微镜 X光无损检测系统推拉力测试机

真空电子束焊机真空泵

供应真空电子束焊机真空泵，电子束在配置大路通DLT.V0300真空泵的真空环境里焊接因具有不用焊条、不易氧化、工艺重复性好及热变形量小的优点而广泛应用于航空航天、原子能、国防及军工、汽车和电气电工仪表等众多行业。电子束焊接要求真空度很高，一般是需要配置多台真空泵才能达到要求，大路通DLT.V0300真空泵是一款结构紧凑,坚固耐用,安全环保的真空泵,转子具有良好的几何对称性，故振动小，运转平稳，真空泵高，所以多作为真空电子束焊机的前级泵配置。本公司技术人员集多年的行业应用经验,借鉴多款欧美产品的优点,结合中国用户的使用维护习惯而独立开发的产品.选用优质配套件,采用先进的加工装配工艺,确保产品的高品质及可靠性.DLT.V0300真空泵能长期不间断运行.DLT.V0300真空泵参数抽气速率: 300立方米/小时极限压力: 0.1mbar电源：380V 电机功率: 7.5KW重量: 约210KG可按应用要求配置多种附件, 体积紧凑，运行宁静，尤其适合各类机械设备配套.产品特点：1.设计精密.结构坚固.重量轻.易于安装及维护.1.低噪音,低震动,工作环境不会受影响 2.内置高效油雾过滤器,所排出的气体不含油雾 3.采用风冷却,但较大型的真空泵配有冷却风管,利用风扇将风管内的润滑油冷却,提高冷却效果 4.内置止回阀及气镇阀，可避免停机后泵逆转而造成油逆流及避免高真空环境下，空气所含水气经压缩凝结成水点，造成润滑油乳化变质5.抽风量强劲,极限真空可达到0.1mbar（10Pa）6.运转声音小.大路通真空泵已普遍应用于各类仪器真空包装，橡胶和塑料工业上的真空吸塑成形，印刷工业上的纸张输送，各类铸件的真空浸渍防漏，机械加工上的真空夹具，电子半导体工业上的元器件真空装夹定位，化工上的真空干燥，过滤，大型机械零件在空真状态下的动平衡试验以及医院手术室的真空吸引等在本型泵所能达到的真空范围的各种真空处理。适用机械:硫化机/加硫机/吸塑机/层压机/橡胶硫化机/精雕机/自动化机械手/吸附加工/真空贴膜机/食品包装机/线路板/薄膜开关/模具抽真空/真空机床吸盘/雕铣机/高光机/CD纹机/数控批花机/含浸机/浸漆机/破波机/脱泡机/灌胶机/点胶机/注型机/电子束焊机

该公司产品分类：真空泵油真空泵维修真空泵配件旋片式真空泵真空设备

电子束蒸发系统

技术参数

1.电子束源&电源 •单个或者可自由切换换电子束源：－－蒸发室数量 1 ~ 12(标配: 4, 6) －－坩埚容量：7 ~ 40 cc (最大可达200 cc) －－－－标准：25 cc (4 or 6 Pocket), 40 cc (4 Pocket) －－－－最大：200 cc (156cc for UHV) 可用于长时间的沉积 •偏转角度：180º, 270º •输出功率：6, 10, 15, 20 kW

•支持两个或者三个电子束源在一个系统上 •可连续或者同时沉积两种或三种材料 •高速率沉积

2.薄膜沉积控制： •IC-5 ( or XTC, XTM) 和计算机控制－－沉积过程参数可控－－石英晶体振荡传感器－－光学检测系统用于光学多层薄膜沉积：测量波长范围350-2000 nm，分辨率1 nm •薄膜厚度检测和处理过程可通过计算机程序控制 •薄膜厚度检测和沉积速率可通过计算机程序控制－－支持大面积沉积－－支持在线电子束蒸发沉积－－基底尺寸：20~100英寸－－薄膜均匀性 <±1.0 to 5.0 %

3.真空腔体： •圆柱形腔体－－直径：φ500 ~ 1,500 mm －－高度：800 ~ 1500 mm •方形腔体－－根据客户的需求定制

4.真空泵和测量装置： •低真空：干泵和convectron真空规 •高真空：涡轮分子泵，低温泵和离子规 •超高真空：双级涡轮分子泵，离子泵和离子规

5.控制系统PLC和触摸屏计算机： •硬件: PLC, 触摸屏计算机－－包括模拟和数字输入/输出卡－－显示器: LCD •自动和手动程序控制－－程序控制：加载，编辑和保存－－程序激活控制：－－－－泵抽真空，蒸发沉积，加热，旋转等－－－－膜厚度检测和控制多层薄膜沉积－－－－系统状态，数据加载等－－－－问题解答和联动状态

主要特点

扩展功能： •质量流量控制器：反应和等离子体辅助惰性气体控制 •离子源和控制器：等离子体辅助沉积 •射频电源：基底预先处理 •温度控制器：基底加热 •热蒸发器：1 or 2 boat •蒸镀源cell：1 or 2 for doping •冷却器：系统冷却

仪器介绍

全球专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等；

电子束蒸发系统：

1.膜电子束蒸发系统E -Beam Evaporation System

2.高真空电子束蒸发系统High Vacuum E -Beam Evaporation System

3.超高真空电子束蒸发系统Ultra-high Vacuum (UHV) E -Beam Evaporation System

4.离子辅助蒸发系统Ion Beam Assisted Evaporation System

5.离子电镀系统Ion Plating System

6.Cluster Tool E -Beam Evaporation System

7.在线电子束蒸发系统In-line E -Beam Evaporation System

EB-4电子束实验仪

主要技术规格

1、示波管

　　聚焦电压：280～380V加速电压：950～1300V

　　偏转电压：-50～+50V

　　Y轴电偏转灵敏度>0.7mm/V

　　Y轴偏转灵敏度>0.3mm/mA

2、适应电源： 220V 50Hz

3、消耗功率：50W

4、外形尺寸：55×385×200 （180）mm

5、总重量：10kg

该公司产品分类：分光光度计演示物理近代物理基础物理流体力学，热工学

型号:M292648 电子束实验仪

电子束实验仪型号:M292648

研究电子在电场和磁场中运动变化规律，可进行电偏转、电聚焦磁偏转、磁聚焦、电子荷质比实验。 1、一体化结构，有5只数显表独立显示各部分电压、电流，无须转换就可同时读数。 2、采用模块化设计，有完善的保护电路，配以高且带有护套的专用连接线，确保实验安全、、经久耐用。 3、配有可达3.5A的磁偏转电流源可方便地实现二次聚焦。

DL08-24053电子束演示仪

、概述：

电子束演示仪采用8SJ31G型静电偏转阴极射线演示管。当该管各极加上工作电压后，从阴极射出具有能量的电子束，由于电子束是不可以用肉眼观察到的，所以通过将电子束加速增加其动量去轰击用特殊材料制作成的荧光屏幕，使屏幕发光，显示电子束的径迹。

仪器的主要用途：(1)演示加速后的电子，在没有外来电场或磁场的作用时，按直线运动。(2)观察电子束在电场的作用下发生偏转。(3)观察电子束在磁场中所受的洛仑兹力。(4)说明热电子发射现象。该仪器设计合理，体积小重量轻，使用方便，安全可靠，维护、维修极为便利。

二、技术性能：

2-1、加速电压：0～700伏连续可调。

2-2、偏转电压：幅度为0～50伏连续可调。

2-3、偏转方向：上、下、左、右四个方向。（电场作用）

2-4、显示方式：荧光屏幕显示电子束径迹。

2-5、电源：220V±10％ 50Hz。

2-6、功耗：＜30W。

2-7、工作环境：a)温度：0～40℃。

b)相对湿度：＜85%。

2-8、连续工作时间：小时。

该公司产品分类：教学仪器照度光谱系列逻辑棒/笔测氡仪氧气检测仪氢气检测报警仪气体检测报警仪熏蒸气体检测仪空气质量检测仪垃圾场气体检测酒精测试仪有毒气体检测仪甲烷检测仪可燃气体检测仪/探测仪复合气体检测仪苯检测仪挥发性有机气体臭氧检测分析仪甲醛检测/分析氧气检测报警仪

DT306-EB-Ⅲ电子束实验仪电子束实验计

[仪器特点] 1、本仪器结构简单，原理直观，无需另配其它设备，只用一套实验仪器就可以做一系列内容由浅入深、系统性很的基础实验，所得实验数据结果的精度也很高。做完这一系列实验之后，学生对有关物理现象的理论基础能有比较深刻的印象。 2、整个实验仪器安装在一只铝合金机箱内，各个单元构成模块化结构，根据不同实验的需要，可将相应得单元连接成实验电路，培养了学生得动手能力，提高了学生得学习兴趣，加深了学生对理论知识得理解。仪器采用一次性铸模接插件和优质连接线，性能稳定可靠；各电压电流采用数显,并用对应的10只指示灯进行指示。 3、仪器包含了实验所需要得所有电源、控制、数字测量和数据显示等部分，无需配置外部设备，即可完成所有相关实验。 [实验内容] 可做电子在电场和磁场中的运动规律的五项实验： 1、电子在横向匀电场作用下的运动 —— 电偏转实验 2、电子在纵向不均匀电场下的运动 —— 电聚焦实验 3、电子在横向磁场作用下的运动 —— 磁偏转实验 4、电子在纵向磁场作用下的运动 —— 磁聚焦实验 5、电子射线的磁聚焦和电子荷质比的测定 —— 电子荷质比的测定 [技术参数] 1、实验用示波管（8SJ示波管或改进型）加速电压：800V～1200V，显示精度1V，三位半LED数字表显示电子束交叉点F到荧光屏的距离：0.190 米栅极电压：0～-80V 灯丝电压：AC 6.3V 丝电流：AC 0.15A±0.02A 水平偏转因数：28.6～40 V / cm 垂直偏转因数：19.2～26.3 V / cm Y轴电偏转灵敏度：>0.7mm/V Y 轴磁偏转灵敏度：>0.3mm/mA 两对偏转板扫描线间垂直度：90±1.5° 管基：J14-2A12 GB787 2、示波管磁偏转电流：-199.9mA～+199.9mA 示波管磁聚焦电流：-1.700A～+1.700A ,聚焦次数≥3次 3、配件：示波管磁聚焦螺线管线圈一只、磁偏转线圈两只 4、数据采集：两块三位半LED数字表显示各电压和电流值，带10个指示灯指示 5、仪器内部含有高精度恒流源（研究电子束在磁场中的变化用）,无需外加测量设备 6、接插件：采用一次性铸模的优质接插件和连接线 7、工作电源：AC 220V±5%，50Hz 8、消耗功率：65W 9、总重量：≈18.5kg 10、外形尺寸：480（W）×340（D）×220（H）mm

该公司产品分类：测氡仪氧气检测仪氢气气体检测报警仪气体检测报警仪熏蒸气体检测仪空气质量检测仪垃圾场有毒有害气体测试仪酒精测试仪有毒气体检测仪甲烷检测仪可燃气体检测仪/探测仪复合气体检测仪显微镜苯检测仪挥发性有机气体测试仪臭氧检测分析仪甲醛检测分析仪二氧化硫检测仪检测仪氨气检测仪