研磨机所有不同的厂家_第21页

CMSD2000改性白炭黑纳米研磨分散机

cmsd改进型胶体磨研磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-04-29

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CMD2000相变材料硅凝胶高速均质胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000实验室湿法粉碎机，湿法粉碎机，粉碎机

实验室湿法粉碎机，湿法粉碎机，粉碎机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。更多详情请致电上海依肯销售工程师徐工 182-0189-1183

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CMSD2000德国进口高速湿法研磨机，实验室湿法高速混合研磨机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000医用高分子材料胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000德国IKN复配食品防腐剂高速胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000IKN植物营养液高速均质胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000香精微胶囊高速胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000黑芝麻蜜胶体磨

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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CMO2000德国IKNGMP陶瓷胶体磨

锥体磨cmo2000是在cm2000基础上的进-步优化产品，有着更新的技术创新。锥形刀具间隙可调节至小，来减小颗粒粒径，从而可获得更细的悬浮液。锥体磨转子表面含高质材料，如金属碳化物或不同颗粒的陶瓷，具有好的粉碎效果。在强剪切区域内亦可受到保护，防止被磨损或腐蚀。根据物料粘度情况的不同，可以灵活调节间隙，保证处理效果的均一。

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CMSD2000氧化铝纤维生物医学材料高速研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000CMC空心胶囊胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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科研实验室用高速匀浆研磨机

科研实验室用高速匀浆研磨机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎效果。

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CMD2000红霉素眼膏剂胶体磨，软膏胶体磨，凡士林软膏胶体磨，金霉素红霉素软膏胶体磨，胶体磨或者改进型胶体磨

红霉素眼膏剂胶体磨，软膏胶体磨，凡士林软膏胶体磨，金霉素红霉素软膏胶体磨，胶体磨或者改进型胶体磨cmd2000系列改进型胶体

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CM2000高速湿法粉碎机

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎的效果。

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CMD2000碳管超高速纳米研磨分散机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000食用二氧化钛研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000水性丙烯酸色浆高速纳米研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000二氧化钛新型高速研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000树脂粉高速研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000鱼鳞胶原蛋白高速研磨机

cm2000在线式鱼鳞胶原蛋白高速研磨机。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000石墨烯改性润滑脂分散机

cmsd2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品。第yi由具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要

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透明冻胶类物质高速胶体磨使用寿命很长，故障率低，稳定性强，正常使用的情况下可使用7年以上，无易损件。比普通胶体磨（高转速2930转）高出4-5倍转速（14000转），剪切分散效果更好；设备整机夹套，可根据需求加热货冷却；工作腔体及罐体夹套中的介质可根据需求通水/冷却液/浆料中的液体介质/导热油等均可；定转子间间隙仅为0.2-0.4mm（间隙可调，研磨细度可控），而普通胶体磨的定转子间隙为1mm以上

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CMSD2000高性能富锂材料高速分散研磨机

cmsd改进型高速研磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000新能源电池浆料高速高剪切胶体磨

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMS2000德国IKN医药中间体管线式胶体磨

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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CMSD2000德国IKN医药中间体管线式研磨分散机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000高剪切胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000黄连膏高速研磨机

黄连膏高速研磨机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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CMSD2000医药转移因子高速纳米胶体磨

医药转移因子高速纳米胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的需求。

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CM2000脱模剂高剪切纳米胶体磨

ikn脱模剂高剪切纳米胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎的效果。

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高速连续式破壁研磨机，高速研磨机，研磨机

高速连续式破壁研磨机，高速研磨机，研磨机，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果啊，可以使物料粒径迅速下降至5um一下，更多详情请致电上海依肯销售工程师徐工 182-0189-1183，公司有样机可以免费进行测试实验。

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CM2000西洋参管线式湿法高速胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000猪脾脏高速纳米研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000口服液高速胶体磨

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000菌藻类胶体磨

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMS2000糖浆剂均质胶体磨

cms2000高速胶体磨的工作原理：超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或成为转子）与相配的定齿（或成为定子）做相对的高速旋转，被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过胶体磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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CM2000石墨烯导电液纳米研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000促肝细胞生长素均质胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CM2000核桃乳高速湿法研磨机

cm2000在线式胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，cm在摩擦状态下工作，因此也被成为湿磨。在锥形定子和转子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散效果。cm2000整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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德国IKN医药胶体磨,医药胶体磨，胶体磨

德国ikn医药胶体磨,医药胶体磨，胶体磨转磨与定磨可根据物料粘度、产量、颗粒细度进行手工调节，其功效为剪切率大、线速度长、无死角、处理大、均质细化效果好。更多详情请致电上海依肯机械设备有限公司销售工程师徐工 182-0189-1183，公司有样机可以免费进行实验测试。

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CMD2000沉析纤维管线式纳米研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000IKN精细化工原料超高速研磨机

cmsd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000混悬型制剂改进型高剪切胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMSD2000IKN德国油墨研磨分散机

ikn德国油墨研磨分散机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMXDIKN超高速研磨剪切胶体磨

cmxd改进型胶体磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000IKN超小粒径胶束溶液早强剂高剪切研磨机

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

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CMD2000IKN超微细混悬液高转速胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-04-29

该公司产品分类：上海依肯机械设备有限公司

CMSD2000高速研磨分散机

高速研磨分散机湿法粉碎机线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-04-29

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CMD2000IKN德国硅酸铝纤维改进型胶体磨

cmd2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。

更新时间:2025-04-29

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