干燥箱/烘箱产品及厂家
洁净无氧烘箱，氮气无氧 烘箱聚酰亚胺作为钝化层和缓冲保护层在微电子工业上应用非常广泛。pi 涂层可有效地阻滞电子迁移、防止腐蚀。pi 层保护的元器件具有很低的漏电流，可增加器件的机械性能，防止化学腐蚀，也可有效地增加元器件的抗潮湿能力。pi 薄膜具有缓冲功能，可有效地降低由于热应力引起的电路崩裂断路，减少元器件在后续的加工、封装和后处理过程中的损伤；
更新时间:2025-12-19
六箱体氮气烘箱，多仓式洁净烘箱于光刻胶固化、坚膜烘烤、治具干燥、芯片封装、碳化硅衬底生产、外延片烘烤、墨点烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、led、pcb板、ito玻璃等精密电子、太阳能
更新时间:2025-12-19
hmds黏附机 光刻胶hmds烘箱 hmds疏水处理烘箱应用多晶硅，石英，太阳能电池片、金属、贵金属、蓝宝石、sic(碳化硅)、磷化铟、gan(氮化镓)、zno（氧化锌）、gao（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。
更新时间:2025-12-19
hmds烘箱 图像反转系统 六甲基二硅氮烷涂胶机使用hmds（六甲基二硅氮烷）对晶圆表面进行快速、均匀、经济高效的涂布，以提高光刻胶的附着力。这些多功能系统还支持图像反转，形成具有与正光刻胶相同的分辨率和易用性的负图像。
更新时间:2025-12-19
hdms烘箱 hdms真空烘箱 智能型hdms预处理烘箱保护装置：紧急停止，hmds药液泄漏报&警提示，hmds低液位报&警，超温保护，漏电保护，过热保护等
更新时间:2025-12-19
紫外固化烘箱 真空紫外烘箱 uv固化真空烤箱主要应用于uv胶水、uv 油墨、uv光油、uv 油漆、uv 涂料、薄膜等 uv 光感材料的固化，3d打印固化，新型材料改性、高分子化学、半导体材料光固化，以及高等院校和科研机构的实验室研究。
更新时间:2025-12-19
高温低湿烘箱 超低湿高温烤箱应用场景：led灯珠、ic芯片等湿敏元器件需在40~90℃、湿度≤5％rh的烘箱中预烘烤，避免回流焊时出现“爆米花”效应
更新时间:2025-12-19
nh3氨气烘箱 氨气真空烘烤系统 氨气图形反转炉使得光刻胶在半导体、光学器件及生物芯片等制造领域能够更地适应图形转移的需求，提升产品的制造质量和精度。
更新时间:2025-12-19
petg/ipn/tpu膜材料烘箱 牙胶片防氧化烘箱 隐形正畸膜热处理烤箱牙科膜片是一种常用的牙种材料，月于修复牙或进行美容矫正。无氧烘箱也适用于lcp膜固化处理、pi固化、bcb等材料固化生产。
更新时间:2025-12-19
乙烯基三甲氧基硅烷涂胶机 vtms蒸镀机 硅烷偶联剂气相沉积系统在材料进行表面改性，形成防水保护层，主要用于半导体、光电、生物新材料等表面处理工艺、机械乳化剂、橡胶粘结剂，化工油墨分散剂等用途。
更新时间:2025-12-19
氮气真空储存箱 真空防潮柜定制 全自动真空氮气柜用于半导体、电路板、电子成品、芯片、电池板、电池片、电子元器件、金属制品、厌氧产品、易氧化产品等，及机金属加工件与各类不便于冷藏的食品，还有书籍、衣物等厌氧物品的真空存贮，以防潮、防氧化变色。适用于工厂、高等院校、科研等场所
更新时间:2025-12-19
烤胶机 智能型烘胶台 高精度热板适应于半导体硅片，载玻片，晶片，基片，ito导电玻璃等工艺，光刻胶快速固化,制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。热板温度稳定度高，重复性好。
更新时间:2025-12-19
憎水处理系统 保温棉憎水性处理机用于米压印工艺/半导体制造/光电面板处理/陶瓷新材料/纳米多孔陶瓷材料/碳纤维材料/保温棉/碳化硅材料等新型复合材料。
更新时间:2025-12-19
玻璃棉卷毡憎水处理系统 憎水剂喷涂机是将憎水剂渗透进入纤维间的微孔隙，固化后在孔隙表面形成纳米级疏水膜，减少水汽通过毛细作用渗透的通道，同时保持纤维间孔隙的保温性能（憎水率≥98％）
更新时间:2025-12-19
四腔hmds真空烘箱 电脑式多工位hmds烘箱将六甲基二硅烷（hmds）快速、均匀且经济高效的对衬底预处理，从而提高衬底与光刻胶的附着力
更新时间:2025-12-19
pi亚胺化厌氧炉，pi真空厌氧烤箱用于光刻胶bcb，聚酰亚胺pi/cpi固化，lcp纤维热处理，晶圆干燥烘烤等工艺，主要用于集成电路、化合物半导体、mems微机电、tft/lcd等半导体相关行业。
更新时间:2025-12-19
pi固化高温烘箱，聚酰亚胺厌氧烤箱用于半导体/三代半导体/新材料/新能源等行业。bcb、pi、cpi、pbo胶固化，lcp新材料、锂电池等产品热处理。
更新时间:2025-12-19
充氮真空无氧烘箱的原理是一种利用真空厌氧固化的设备,它可以在无氧的环境下对一些特殊的胶水进行快速固化,适用于半导体芯片、电子元器件、医疗器械等域。
更新时间:2025-12-19
真空热风烘箱，高温热风真空烤箱用于聚酰亚胺pi胶、cpi胶、bcb胶固化、低k电介质固化，lcp材料热处理、键合材料预处理，fowlp扇出封装，ito膜/铝/铜退火，pbo胶固化等特殊工艺。
更新时间:2025-12-19
铌酸锂无氧烘箱用于半导体晶片、半导体封装和mems器件的批量生产。主要用于聚酰亚胺pi胶、cpi胶、bcb胶固化、低k电介质固化，lcp材料热处理、键合材料预处理，fowlp扇出封装，ito膜/铝/铜退火，pbo胶固化等特殊工艺。
更新时间:2025-12-19
无氧固化炉,高温无氧化固化烤箱应用于半导体晶片、半导体封装和mems器件的批量生产。主要用于pi/cpi固化，bcb固化，pbo固化，lcp纤维热处理。
更新时间:2025-12-19
坚膜烘箱，氮气坚膜烘箱的作用是在一定的温度下,对显影后的衬底进行烘焙。这将使光刻胶的表面在表面张力的作用下而圆滑化,并使光刻胶层中的缺陷因光刻胶表面的圆滑化而减少,并可借此修正光刻胶图形的边缘轮廓。
更新时间:2025-12-19
碳化硅hmds烘箱，sic衬底hmds烤箱成功地将硅片等衬底表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
更新时间:2025-12-19
墨点烘箱，墨点氮气烘箱在芯片完成过程工艺及测试后，将硅片放入物理墨点的设备，输入用程序，对一颗非完整芯粒进行打墨点工艺，待打点完成后，将硅片放入烘箱进行墨点烘干操作。
更新时间:2025-12-19
hmds增粘剂烘箱，hmds涂胶机即hmds(六甲基二硅烷)增粘剂气相涂布，涂胶工艺的配置机台。该设备结合了有效的真空烘烤和蒸汽气相涂布应用方法。
更新时间:2025-12-19
烘可在热烘板或氮气烘箱中进行,本课题采用的热风烘箱为隽思氮气洁净烘箱，由于在鼓风烘箱中对流烘烤将会使烘进行的更加均匀，所以在鼓风箱中烘的效果将会更理想。
更新时间:2025-12-19
js-hmds90烘箱采用真空蒸镀的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高温条件下，达到真空状态后开始涂布工艺，涂布完成后烘箱内部充入n2，达到常压后方可开门。
更新时间:2025-12-19
hmds增粘剂烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘剂气相涂布，涂胶工艺的配置机台。该设备结合了有效的真空烘烤和蒸汽气相涂布应用方法。在使用同一腔室过程的过程，为脱水和蒸汽灌注创造了一个加热的真空环境，大大降低了晶片再水化或污染的风险。同时，提高了安全性，具有更好的安全保障。
更新时间:2025-12-19
箱体结构: 内箱采用sus304/316l不锈钢制作,以全周氩弧焊无缝处理; 外箱采用优质不锈钢或冷轧板静电喷塑处理; 外箱保温材质用高超细陶瓷纤维保温,六面保温断热,达到降低机台表面温度的目的。
更新时间:2025-12-19
bcb作为一类高性能聚合物，以它特有的性质，将会被越来越多地使用。bcb是具有优良的热稳定性、化学稳定性、电绝缘性和机械强度的高性能材料。在现代高技术域有非常重要的应用。例如在微电子制造中，用作各类器件钝化防护和层间介电等。
更新时间:2025-12-19
js-hmds90烘箱采用真空蒸镀的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高温条件下，达到真空状态后开始涂布工艺，涂布完成后烘箱内部充入n2，达到常压后方可开门。
更新时间:2025-12-19
碳化硅hmds烘箱，sic衬底hmds烤箱成功地将硅片等衬底表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
更新时间:2025-12-19
充氮烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内持续充氮，使烘箱工作室内处于洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，并附设有超温自动停止加热及报警电路，控制可靠，使用安全。全周氩焊，耐高温硅胶迫紧，sus304＃不锈钢电热产生器，防机台本身产生微尘；耐高温，可以达到和工作场同样的地洁净等；
更新时间:2025-12-19
lcp热处理烘箱，lcp纤维氮气烘箱是将液晶聚合物(lcp)当加热到足够高的温度，lcp熔融形成液晶熔融相(经常叫做“各向异性相”)而不是各向同性熔融相。
更新时间:2025-12-19
马弗炉，高温电阻炉是分析实验室样品干法处理，冶金实验室做熔融实验，热处理部门做退火、淬火等实验，以及其他需要高温的场合需要的加热辅助设备，应用广泛。一体型马弗炉是新研制生产的产品，该产品将炉体与控制部分做了整合，大的降低了所占空间面积。
更新时间:2025-12-19
无氧烘箱，光刻胶固化烘箱用于精密电子元件、pi胶固化烘烤、bcb固化，光刻胶固化、lcp液晶聚合物热处理、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，
更新时间:2025-12-19
hmds预处理系统(js-hmds90 )将hmds气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
更新时间:2025-12-19
真空无氧烘箱是一种提供高温、低氧、洁净环境的特殊制程设备。烘箱内部为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内可充氮、真空，使烘箱工作室内处于低氧、洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，曲线升温、恒温、快速降温。并附设有超温断开加热、氧含量检测、辅助降温装置及报警电路，控制可靠，使用安全。
更新时间:2025-12-19
应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、银胶固化、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、led、pcb板、ito玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业.
更新时间:2025-12-19
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