干燥箱/烘箱产品及厂家
hmds涂胶机，智能型hmds涂胶机，hmds自动涂胶机将hmds涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
更新时间:2025-10-27
氮气烘箱，四箱氮气烤箱，不锈钢充氮烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、lcd、cmos、is、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。
更新时间:2025-10-27
抗粘剂镀膜机，抗粘剂蒸镀机，抗粘剂气相涂布机在纳米压印工艺中模具在进行压印要进行预处理，当模具压印光刻胶后脱模时，有2种可能，一种是模具可完全脱离，压印胶图形完整保留;一种是模具和压印胶粘在一起脱模过程中胶也被带起来，使得压印图形无法保留，而这些粘在模具上的胶也会污染模具。因此模具在使用，要涂一层抗粘剂，使得模具和压印胶之间的粘附性变差，使脱模过程变得容易。
更新时间:2025-10-27
抗粘剂涂胶机，抗粘剂真空预处理系统给模板制备抗粘层，制备抗粘层的方法以及模板的结构也会影响到终的抗粘效果。当模板结构在100nm以下时，在液相中制备的抗粘层就不能完全起到抗粘的作用。这是因为在模板的角落中会滞留一部分空气而导致抗粘材料无法到达这些位置然而，若采用气相的方法则不存在这样的问题。
更新时间:2025-10-27
半导体充氮烘箱，氮气烤胶烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱内部整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内持续充氮，使烘箱工作室内处于洁净状态
更新时间:2025-10-27
高温百无氧烘箱，500度厌氧洁净烤箱用pi、bcb 胶高温固化烘烤、银胶固化、光刻胶固化、电子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、无尘烘干的特殊工艺要求
更新时间:2025-10-27
程控式氮气洁净烤箱，四箱充氮烘箱工作室内温度由温控仪自动控制，可设定定值运行、程序（曲线）运行自由切换，并有自动恒温及时间控制，并附设有超温自动停止加热及报警电路，控制可靠，使用安全。
更新时间:2025-10-27
抗粘剂气相成底膜烘箱，抗粘剂气相沉积系统主要用于纳米压印光刻（nil）应用，防粘涂层的制备，可用于光刻工艺中hmds增粘剂涂胶；以及功率半导体,led,mems,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。
更新时间:2025-10-27
百三箱洁净烤箱，高温洁净烘箱定制应用于精密电子元件、高温烘烤、坚膜烘烤、治具干燥、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、led、pcb板、ito玻璃、四氟材料等精密电子、太阳能、新材料等行业.
更新时间:2025-10-27
晶圆洁净烘箱，不锈钢百烤箱定制用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、lcd、cmos、is、医药、实验室等生产及科研部门
更新时间:2025-10-27
洁净氮气热风烘箱，精密充氮是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内持续充氮，使烘箱工作室内处于洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，并附设有超温自动断开加热及报警电路，控制可靠，使用安全。
更新时间:2025-10-27
无氧烘箱，无氧烤箱氧浓度仪应用于精密电子元件、pi、bcb、lcp固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升降温环境，特别适合半导体制造、cob封装、医疗卫生、柔性线路板印刷、精密模具煺火等行业的无氧化干燥烘烤工艺要求
更新时间:2025-10-27
hmds预处理系统(js-hmds90 )将hmds气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
更新时间:2025-10-27
智能型hmds真空系统（js-hmds90-ai）将hmds气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
更新时间:2025-10-27
三箱式百无尘烤箱，电子百洁净烘箱采用彩色触摸屏温度控制器，内置曲线记录、查询 pid自整定、高温上限报警、 运行方式：定值、程式 语言：中、英文
更新时间:2025-10-27
智能型无尘无氧烘箱(pi固化厌氧烤箱)采用人机界面+plc，智能控制模式，可一键完成作业。人机界面采用触摸屏来实现参数、状态等界面的显示和参数的设定输入。
更新时间:2025-10-27
真空无氧化烤箱（bcb厌氧固化烤烘箱）是将涂敷bcb或pi的衬底放入真空无氧烘箱中，通入n2→真空置换后，采用多升温保温的方式，在规定的时间从室温升至一温度阶段，并在该温度段保温1-2h，再在规定的时间从一温度升至第二温度阶段，并在该温度段保温一定的时间；随后增通过辅助的降温系统（水冷和风冷），将退火炉的温度降至80度左右，完成固化。
更新时间:2025-10-27
高温真空无氧烤箱，真空无氧化固化炉操作界面：人机界面+plc，可一键运行，多个工艺编辑；温度测量：k型热偶；控制仪表：高精度温度控制器，pid调节，控制精度0.1℃，可程式触摸屏控制器可选择
更新时间:2025-10-27
可程式真空干燥箱，快速降温真空烘箱用于键合键合材料的真空固化 、ito膜退火，bcb/pi胶固化等工艺。广泛应用于半导体、电子产品、医疗卫生等行业，适用于工厂、高等院校、科研等场所。
更新时间:2025-10-27
class100高温洁净烘箱，程控式无尘烤箱采用液晶触摸屏温度控制器，内置曲线查询、pid自整定、高温上限报 警运行方式：定值、程式，中、英文操作。
更新时间:2025-10-27
高温无氧烘箱，充氮高温无氧烤箱应用于mems智能传感器芯片生产、lcd工段生产、玻璃基板等工艺中的pi（聚酰亚胺）固化，bcb聚合物、pbo高温固化，银胶固化，光刻胶固化，镀金方案中感湿膜烘烤工艺，车载玻璃镀膜后退火，硅片（晶圆）高温退火，pcb板防氧化烘烤，氟橡胶材料厌氧烘烤工艺，电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求
更新时间:2025-10-27
集成电路封装用氮气烘箱将装片完成后的框架送入道烘箱，关闭仓门、通入氮气、洁净烘箱温度提升至 175℃，固化时间持续约 1 小时，从而使装片时使用的导电银胶固化。
更新时间:2025-10-27
高温无氧烘箱520l用于精密电子元件、银胶固化、pi/bcb/bpo胶高温固化烘烤、光刻胶固化、晶圆退火电子陶瓷材料防氧化烘干、测试的特殊工艺要求。
更新时间:2025-10-27
hmds烤箱，hmds真空烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘剂气相涂布成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
更新时间:2025-10-27
无氧烘箱，防氧化高温烤箱工作室内充满了惰性气体co2,n2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧化烘箱在工业中的用途：ic包装，lcd,晶体管，传感器，二极管，石英晶体振荡器，混合集成电路板等。
更新时间:2025-10-27
流水线式干燥烘箱，非标隧道烘箱定做是连续式烘干设备，可持续不间断地烘烤，提高产品生产效率，应用于轻工，电子，食品，化工，木业，机械等行业。
更新时间:2025-10-27
非标石膏模具烤箱，重型转盘烤箱定做可满足精铸优质的锌合金模具要求，广泛应用于汽车轮胎、航天等工业的高品质铝制品。我们的烘箱的产品，符合国际企业对产品质量和文档记录设定的标准。
更新时间:2025-10-27
半导体烤箱，wafer烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料预处理烘烤；也适用于电子液晶显示、lcd、cmos、is、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。
更新时间:2025-10-27
hmds真空镀膜机，光刻hmds镀膜烤箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层hmds，降低了hmds处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
更新时间:2025-10-27
hmds熏蒸机，hmds熏蒸烤箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层hmds，降低了hmds处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
更新时间:2025-10-27
n2洁净烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，并附设有超温自动停电及报警电路，控制可靠，使用安全。
更新时间:2025-10-27
半导体烘箱，n2半 导体烤箱适用于电子液晶显示、lcd、cmos、ic、ic封装、医药、实验室等生产及科研部门。也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其它高温试验
更新时间:2025-10-27
增粘剂烤箱，hmds烘箱将hmds涂到led、半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。均匀涂布一层hmds，降低了hmds处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
更新时间:2025-10-27
百级烤箱，百级充氮烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、lcd、cmos、is、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。
更新时间:2025-10-27
高温固化烤箱，百级无尘无氧烤箱主要应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求。应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、led、pcb板、ito玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业.
更新时间:2025-10-27
bcb胶高温固化炉，bcb胶无氧固化烤箱应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、led、pcb板、ito玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业.
更新时间:2025-10-27
精密无氧化烘箱，无氧烤箱在工作时，工作室内充满了惰性气体co2,n2,防止材料在烘烤时被氧化。无氧化烘箱在工业中的用途：ic包装，lcd,晶体管，传感器，二极管，石英晶体振荡器，混合集成电路板……
更新时间:2025-10-27
无氧高温烘箱，百级无氧烘箱主要应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求。应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、led、pcb板、ito玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业.
更新时间:2025-10-27
hmds真空烘箱，hmds镀膜烘箱通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层hmds，降低了hmds处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。
更新时间:2025-10-27
bcb胶高温固化烘箱、光刻胶固化烤箱主要应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求。应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、led、pcb板、ito玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业.
更新时间:2025-10-27
无尘烘箱，100级洁净烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶前的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、lcd、cmos、is、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。
更新时间:2025-10-27
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