干燥箱/烘箱所有不同的厂家_第109页

铌酸锂无氧化烘箱

铌酸锂无氧烘箱用于半导体晶片、半导体封装和mems器件的批量生产。主要用于聚酰亚胺pi胶、cpi胶、bcb胶固化、低k电介质固化，lcp材料热处理、键合材料预处理，fowlp扇出封装，ito膜/铝/铜退火，pbo胶固化等特殊工艺。

更新时间:2025-10-22

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无氧固化炉,高温无氧化固化烤箱

无氧固化炉,高温无氧化固化烤箱应用于半导体晶片、半导体封装和mems器件的批量生产。主要用于pi/cpi固化，bcb固化，pbo固化，lcp纤维热处理。

更新时间:2025-10-22

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坚膜烘箱，氮气坚膜烘箱

坚膜烘箱，氮气坚膜烘箱的作用是在一定的温度下,对显影后的衬底进行烘焙。这将使光刻胶的表面在表面张力的作用下而圆滑化,并使光刻胶层中的缺陷因光刻胶表面的圆滑化而减少,并可借此修正光刻胶图形的边缘轮廓。

更新时间:2025-10-22

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碳化硅HMDS烘箱，SiC衬底HMDS烤箱

碳化硅hmds烘箱，sic衬底hmds烤箱成功地将硅片等衬底表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

更新时间:2025-10-22

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墨点烘箱，墨点氮气烘箱

墨点烘箱，墨点氮气烘箱在芯片完成过程工艺及测试后，将硅片放入物理墨点的设备，输入用程序，对一颗非完整芯粒进行打墨点工艺，待打点完成后，将硅片放入烘箱进行墨点烘干操作。

更新时间:2025-10-22

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HMDS增粘剂烘箱，HMDS涂胶机

hmds增粘剂烘箱，hmds涂胶机即hmds(六甲基二硅烷)增粘剂气相涂布，涂胶工艺的配置机台。该设备结合了有效的真空烘烤和蒸汽气相涂布应用方法。

更新时间:2025-10-22

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烘氮气烘箱，硬烘洁净烘箱@推荐2023测试报告

烘可在热烘板或氮气烘箱中进行,本课题采用的热风烘箱为隽思氮气洁净烘箱，由于在鼓风烘箱中对流烘烤将会使烘进行的更加均匀，所以在鼓风箱中烘的效果将会更理想。

更新时间:2025-10-22

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桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱@推荐2023标准配置

js-hmds90烘箱采用真空蒸镀的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高温条件下，达到真空状态后开始涂布工艺，涂布完成后烘箱内部充入n2，达到常压后方可开门。

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HMDS增粘剂烘箱，HMDS涂胶机@推荐2023产品选型

hmds增粘剂烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘剂气相涂布，涂胶工艺的配置机台。该设备结合了有效的真空烘烤和蒸汽气相涂布应用方法。在使用同一腔室过程的过程，为脱水和蒸汽灌注创造了一个加热的真空环境，大大降低了晶片再水化或污染的风险。同时，提高了安全性，具有更好的安全保障。

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无氧固化炉,高温无氧化固化烤箱@推荐2023参数规格

箱体结构: 内箱采用sus304/316l不锈钢制作,以全周氩弧焊无缝处理; 外箱采用优质不锈钢或冷轧板静电喷塑处理; 外箱保温材质用高超细陶瓷纤维保温,六面保温断热,达到降低机台表面温度的目的。

更新时间:2025-10-22

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双腔无氧烤箱，两箱无氧烘箱@2023已更新推荐

该工业烘烤箱是一种新型可营造无氧洁净恒温环境的电热鼓风烘箱箱,在加温工作的同时充入氮气,适用高温易氧化产品的烘烤加热。

更新时间:2025-10-22

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BCB无氧烘箱，BCB固化烤箱@2023动态已更新《新品/推荐》

bcb作为一类高性能聚合物，以它特有的性质，将会被越来越多地使用。bcb是具有优良的热稳定性、化学稳定性、电绝缘性和机械强度的高性能材料。在现代高技术域有非常重要的应用。例如在微电子制造中，用作各类器件钝化防护和层间介电等。

更新时间:2025-10-22

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桌上型HMDS烘箱，小型HMDS真空烤箱#推荐@2023系统配置

js-hmds90烘箱采用真空蒸镀的方法涂布hmds化合物。hmds烘箱在高温条件下，达到真空状态后开始涂布工艺，涂布完成后烘箱内部充入n2，达到常压后方可开门。

更新时间:2025-10-22

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碳化硅HMDS烘箱，SiC衬底HMDS烤箱操作方法#技术新闻

碳化硅hmds烘箱，sic衬底hmds烤箱成功地将硅片等衬底表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

更新时间:2025-10-22

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OAP烘箱，OAP处理烘箱的技术原理#技术报道

oap烘箱，oap处理烘箱处理主要是为了改善亲水性表面，变为疏水性，从而达到增加光刻胶粘附性的作用。

更新时间:2025-10-22

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热风真空烘箱，真空+鼓风一体烘箱操作方法#技术新闻

热风真空烘箱，真空+鼓风一体烘箱主要用于bcb固化、pi固化、其他光刻胶固化、lcp热处理等工艺

更新时间:2025-10-22

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氮气烘箱，精密充氮烘箱@2023动态已更新《新品/推荐》

充氮烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内持续充氮，使烘箱工作室内处于洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，并附设有超温自动停止加热及报警电路，控制可靠，使用安全。全周氩焊，耐高温硅胶迫紧，sus304＃不锈钢电热产生器，防机台本身产生微尘；耐高温，可以达到和工作场同样的地洁净等；

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LCP热处理烘箱，LCP纤维氮气烘箱的技术特点#技术新闻

lcp热处理烘箱，lcp纤维氮气烘箱是将液晶聚合物(lcp)当加热到足够高的温度，lcp熔融形成液晶熔融相(经常叫做“各向异性相”)而不是各向同性熔融相。

更新时间:2025-10-22

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马弗炉，高温电阻炉2023动态已更新《新品/推荐》

马弗炉，高温电阻炉是分析实验室样品干法处理，冶金实验室做熔融实验，热处理部门做退火、淬火等实验，以及其他需要高温的场合需要的加热辅助设备，应用广泛。一体型马弗炉是新研制生产的产品，该产品将炉体与控制部分做了整合，大的降低了所占空间面积。

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箱式电阻炉，高温马弗炉#2023价格已更新

箱式电阻炉，高温马弗炉为周期作业式电炉，可供工矿企业、科研等单位实验室作化学分析、物理测定和一般小型钢件热处理时加热之用。

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无氧烘箱，光刻胶固化烘箱2023已更新(每日/实时)

无氧烘箱，光刻胶固化烘箱用于精密电子元件、pi胶固化烘烤、bcb固化，光刻胶固化、lcp液晶聚合物热处理、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，

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HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )#2023价格已更新

hmds预处理系统(js-hmds90 )将hmds气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

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真空无氧固化炉，高温无氧烘箱@2023动态已更新《新品/推荐》

真空无氧烘箱是一种提供高温、低氧、洁净环境的特殊制程设备。烘箱内部为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内可充氮、真空，使烘箱工作室内处于低氧、洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，曲线升温、恒温、快速降温。并附设有超温断开加热、氧含量检测、辅助降温装置及报警电路，控制可靠，使用安全。

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智能型无尘无氧烘箱（PI烤箱）@推荐2023测试报告

应用于精密电子元件、pi、bcb胶高温固化烘烤、银胶固化、光刻胶固化、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、led、pcb板、ito玻璃等精密电子、太阳能、新材料等行业.

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HMDS烤箱，HMDS真空烘箱#2023动态已更新

hmds烤箱，hmds真空烘箱即hmds(六甲基二硅烷)增粘剂气相涂布成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

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500度高温洁净烘箱，百高温烤箱仪器应用

洁净烘箱，百洁净烤箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、lcd、cmos、is、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。

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充氮PI烘箱，PI充氮烤箱

充氮pi烘箱，pi充氮烤箱升温速率可控，设定工艺曲线，一键运行；辅助降温缩短降温时间，提高生产效率；可达到低氧环境，固化效果更佳。

更新时间:2025-10-22

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HMDS涂胶机，智能型HMDS涂胶机，HMDS自动涂胶机

hmds涂胶机，智能型hmds涂胶机，hmds自动涂胶机将hmds涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

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氮气烘箱，四箱氮气烤箱，不锈钢充氮烘箱

氮气烘箱，四箱氮气烤箱，不锈钢充氮烘箱用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、lcd、cmos、is、医药、实验室等生产及科研部门；也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。

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抗粘剂镀膜机，抗粘剂蒸镀机，抗粘剂气相涂布机

抗粘剂镀膜机，抗粘剂蒸镀机，抗粘剂气相涂布机在纳米压印工艺中模具在进行压印要进行预处理，当模具压印光刻胶后脱模时，有2种可能，一种是模具可完全脱离，压印胶图形完整保留;一种是模具和压印胶粘在一起脱模过程中胶也被带起来，使得压印图形无法保留，而这些粘在模具上的胶也会污染模具。因此模具在使用，要涂一层抗粘剂，使得模具和压印胶之间的粘附性变差，使脱模过程变得容易。

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抗粘剂涂胶机，抗粘剂真空预处理系统

抗粘剂涂胶机，抗粘剂真空预处理系统给模板制备抗粘层，制备抗粘层的方法以及模板的结构也会影响到终的抗粘效果。当模板结构在100nm以下时，在液相中制备的抗粘层就不能完全起到抗粘的作用。这是因为在模板的角落中会滞留一部分空气而导致抗粘材料无法到达这些位置然而，若采用气相的方法则不存在这样的问题。

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半导体充氮烘箱，氮气烤胶烘箱

半导体充氮烘箱，氮气烤胶烘箱是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱内部整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内持续充氮，使烘箱工作室内处于洁净状态

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高温百无氧烘箱，500度厌氧洁净烤箱

高温百无氧烘箱，500度厌氧洁净烤箱用pi、bcb 胶高温固化烘烤、银胶固化、光刻胶固化、电子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、无尘烘干的特殊工艺要求

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程控式氮气洁净烤箱，四箱充氮烘箱

程控式氮气洁净烤箱，四箱充氮烘箱工作室内温度由温控仪自动控制，可设定定值运行、程序（曲线）运行自由切换，并有自动恒温及时间控制，并附设有超温自动停止加热及报警电路，控制可靠，使用安全。

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抗粘剂气相成底膜烘箱，抗粘剂气相沉积系统

抗粘剂气相成底膜烘箱，抗粘剂气相沉积系统主要用于纳米压印光刻（nil）应用，防粘涂层的制备，可用于光刻工艺中hmds增粘剂涂胶；以及功率半导体,led,mems,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。

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智能型HMDS涂胶机，自动HMDS涂胶镀膜机

智能型hmds涂胶机，自动hmds涂胶镀膜机也称为hmds处理，是用于使晶片表面呈疏水性的处理。

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百三箱洁净烤箱，高温洁净烘箱定制

百三箱洁净烤箱，高温洁净烘箱定制应用于精密电子元件、高温烘烤、坚膜烘烤、治具干燥、电子陶瓷材料无尘烘干的特殊工艺要求，适用于触摸屏、晶圆、led、pcb板、ito玻璃、四氟材料等精密电子、太阳能、新材料等行业.

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晶圆洁净烘箱，不锈钢百烤箱

晶圆洁净烘箱，不锈钢百烤箱定制用于半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃等材料涂胶的预处理烘烤、涂胶后坚膜烘烤和显影后的高温烘烤；也适用于电子液晶显示、lcd、cmos、is、医药、实验室等生产及科研部门

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洁净氮气热风烘箱，精密充氮烘箱

洁净氮气热风烘箱，精密充氮是一种提供高温净化环境的特殊洁净烘干设备。烘箱整机为不锈钢结构，全部采用无尘材料，箱内持续充氮，使烘箱工作室内处于洁净状态。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，并附设有超温自动断开加热及报警电路，控制可靠，使用安全。

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无氧烘箱，无氧烤箱氧浓度仪

无氧烘箱，无氧烤箱氧浓度仪应用于精密电子元件、pi、bcb、lcp固化烘烤、光刻胶固化、电子陶瓷材料烘干的特殊工艺要求，模拟线性升降温环境，特别适合半导体制造、cob封装、医疗卫生、柔性线路板印刷、精密模具煺火等行业的无氧化干燥烘烤工艺要求

更新时间:2025-10-22

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HMDS预处理系统(JS-HMDS90 )

hmds预处理系统(js-hmds90 )将hmds气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

更新时间:2025-10-22

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智能型HMDS真空系统（JS-HMDS90-AI）

智能型hmds真空系统（js-hmds90-ai）将hmds气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

更新时间:2025-10-22

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三箱式百无尘烤箱，电子百洁净烘箱

三箱式百无尘烤箱，电子百洁净烘箱采用彩色触摸屏温度控制器，内置曲线记录、查询 pid自整定、高温上限报警、运行方式：定值、程式语言：中、英文

更新时间:2025-10-22

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全不锈钢洁净烘箱，高温洁净烘箱定做

全不锈钢洁净烘箱，高温洁净烘箱定做洁净度class 100，设备采用无尘材料，适用100光刻间净化环境

更新时间:2025-10-22

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智能型无尘无氧烘箱(PI固化厌氧烤箱)

智能型无尘无氧烘箱(pi固化厌氧烤箱)采用人机界面+plc，智能控制模式，可一键完成作业。人机界面采用触摸屏来实现参数、状态等界面的显示和参数的设定输入。

更新时间:2025-10-22

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真空无氧化烤箱（BCB厌氧固化烤烘箱）

真空无氧化烤箱（bcb厌氧固化烤烘箱）是将涂敷bcb或pi的衬底放入真空无氧烘箱中，通入n2→真空置换后，采用多升温保温的方式，在规定的时间从室温升至一温度阶段，并在该温度段保温1-2h，再在规定的时间从一温度升至第二温度阶段，并在该温度段保温一定的时间；随后增通过辅助的降温系统（水冷和风冷），将退火炉的温度降至80度左右，完成固化。

更新时间:2025-10-22

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