镀膜机产品及厂家

脱模剂蒸镀机,脱模剂真空镀膜机
应用于半导体、光电、电子行业,硅片、砂纸或石英硬模板等材料。
更新时间:2025-07-03
小型蒸发镀膜仪的产品研发#技术新闻
小型蒸发镀膜仪,实验室气相沉积设备用于真空蒸发镀光学薄膜、有机物薄膜和金属薄膜、在衬底上沉积各单层金属 膜,主要用于蒸镀电及有机半导体材料的物理化学性能研究实验研究 。特别适合于高科技企业、科研单位和高校用于膜层研究和膜系开发。
更新时间:2025-07-03
全自动热蒸发镀碳仪蒸碳仪喷碳仪镀膜仪 纳米碳膜实验室仪器
全自动热蒸发镀碳仪蒸碳仪喷碳仪镀膜仪 纳米碳膜实验室仪器优势看得见:1. 7英寸彩色触摸屏,全数字显示,直观清晰;2. 具备脉冲加热和连续加热两种工作模式,适用各种不同的样品;3. 自动检测每根碳绳的状态,并在镀膜过程中自动切换;4. 每根碳绳使用会进行自动除气,确保碳膜的纯净度;5. 操作非常简单,多只需设置两个参数即可;
更新时间:2025-07-03
美国Denton Vacuum 金/碳镀膜机
美国denton vacuum 金/碳镀膜机,用于大型工业生产、科研开发和小规模制造。
更新时间:2025-07-02
英国Oxford Vacuum 电子束蒸发镀膜机
英国oxford vacuum 电子束蒸发镀膜机vapour station 4,是一款微纳器件样品制备系统,为有机无机多源有气相分子沉积系统,高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各 种化合物、混合物单层或多层膜,具有高真空多源有机、金属电阻蒸发及手 套箱保护条件下器件后期制作,主要用于有机半导体材料的物理化学性能,研究实验、有机半导体器件的原理研究实验也可用于普通金属电蒸发镀膜究。
更新时间:2025-07-02
法国Plassys微波等离子体化学气相沉积系统
法国plassys微波等离子体化学气相沉积系统 ssdr 150 ,门用于合成 cvd 金刚石薄膜,能够制备高纯单晶(需高纯气源)、厚单晶、大单晶、多晶薄膜、光学窗口。ssdr150 不断优化的微波及等离子体设计,是一款可靠的、稳定的、长时间运行的金刚石薄膜生长系统,能够完美地适用于高校科研和企业生产。
更新时间:2025-07-02
英国HHV桌上型溅射镀膜仪
英国hhv桌上型溅射镀膜仪bt150和bt300,新系列小型桌上系统,触摸屏显示控制,适合于sem及tem电镜样品制备及常规科研的全功能系统。
更新时间:2025-07-02
日立Hitachi 离子溅射仪
日立hitachi 离子溅射仪 mc1000,采用lcd触摸屏,可以更加简便地设定加工条件,可处理较厚或较大的样品(选配件),记忆功能可存储常用加工条件.
更新时间:2025-07-02
美国Neocera脉冲激光沉积系统及脉冲电子束沉积系统
美国neocera pld 脉冲激光沉积系统 p180 , 一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法. ped 脉冲电子束沉积系统 ped-180,是高能脉冲 (100ns) 电子束 ( 约 1000 a,15 kev) 在靶材上穿透将近 1 um,使靶材快速蒸发形成等离子体。对靶材的非平衡提取(烧灼)使等离子体的组成与靶材的化学计量组成一致。在最佳条件下,靶材的化学计量与沉积
更新时间:2025-07-02
DW-3A  真空镀膜机配套冷水机
                    真空镀膜机配套冷水机 一:产品系列型号:dw-a系
更新时间:2025-07-01
极域真空镀膜系统上海喆图
极域真空镀膜系统以“真空性能”与“全域工艺覆盖”为内核,成为半导体、光学、新能源等制造领域的标杆设备,助力客户突破镀膜技术瓶颈,实现“高精度、高效率、高回报”的智造升级。
更新时间:2025-07-01
EMS150 R离子溅射镀膜仪
新一代ems 150r镀膜仪(真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪)采用最新技术研制而成,彩色触摸液晶屏,快速的参数输入,数种碳丝匹配,友好的用户界面,带给你不一般的操作感受!
更新时间:2025-06-26
EMS150 T离子溅射镀膜仪
ms150 t离子溅射镀膜仪的机壳是整体成型的,结构坚固耐用,配有气冷的70l/s的涡轮分子泵,自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空水平,真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。ems150t具有“真空闭锁”功能,可在设备不工作时维持腔室的真空度,从而保证高真空的性能。
更新时间:2025-06-26
上海伯东霍尔离子源 eH 2000,霍尔源,真空镀膜离子源
上海伯东代理美国原装进口 kri 霍尔离子源 eh 2000 是一款更强大的版本, 带有水冷方式, 他具备 eh 1000 所有的性能, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合大中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
更新时间:2025-06-24
上海伯东射频离子源 RFICP 40,高能量射频源,真空镀膜离子源
上海伯东代理美国原装进口 kri 射频离子源 rficp 40 : 目 kri 射频离子源 rficp 系列尺寸小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空腔体内. 离子源 rficp 40 设计采用创新的栅技术用于研发和开发应用. 离子源 rficp 40 无需电离灯丝设计, 适用于通气气体是活性气体时的工业应用. 标准配置下 rficp 40 离子能量范围 100 至 1200ev,
更新时间:2025-06-24
上海伯东霍尔离子源 eH 400,真空镀膜离子源
上海伯东代理美国原装进口 kri 霍尔离子源 eh 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eh 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
更新时间:2025-06-24
上海伯东美国KRi 霍尔离子源 eH 系列,真空镀膜离子源
美国 kri 霍尔离子源 eh 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等的细微加工能力, 霍尔离子源 eh 可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护.
更新时间:2025-06-24
上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 100,高能量射频源
上海伯东代理美国原装进口 kri 考夫曼型离子源 rficp 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 >400 ma 离子流. 考夫曼型离子源 rficp 100 源直径19cm 安装在10”cf 法兰, 在离子溅镀时, 离子源配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 在离子刻蚀工艺中, 离子源与离子光学配合, 蚀刻更均匀. 标准配
更新时间:2025-06-24
上海伯东磁控共溅镀设备,溅射镀膜机,真空镀膜机
上海伯东代理的磁控共溅镀腔提供了准确控制多个磁控溅镀的制程条件, 加装美国 kri 离子源为客户提供更好质量的复合式薄膜.单片和多片式的loading chamber, 可节省其制程腔体的抽气时间, 进而节省整体实验时间. 广泛应用于半导体, 纳米科技, 太阳能电池等行业以及氧化物, 氮化物和金属材料的研究等.
更新时间:2025-06-24
上海伯东剥离成形电子束蒸镀设备 Lift-Off,电子束蒸发系统
上海伯东代理剥离成形电子束设备可以准确的控制蒸发速度, 因此薄膜厚度和均匀度皆小于 ±3%, 客制化的基板尺寸, 大直径可达 12寸晶圆, 腔体的限真空度约为 10-8 torr.
更新时间:2025-06-24
上海伯东美国 KRi射频离子源 RFICP 140,高能量射频源
上海伯东代理美国原装进口 kri 射频离子源 rficp 140 是一款紧凑的有栅离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中,射频离子源 rficp 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能
更新时间:2025-06-24
上海伯东超高真空电子束蒸镀设备,电子束蒸发系统,真空镀膜机
上海伯东代理 syskey 台湾矽碁科技超高真空电子束蒸镀设备腔体限真空度约为 10-10torr, 针对超高真空和高温加热设计基板旋转镀膜机构, 使用陶瓷培林旋转, 并在内部做水冷循环来保护机构以确保长时间运转的稳定性, 可以提供高质量的薄膜, 薄膜均匀度小于 ±3%.
更新时间:2025-06-24
上海伯东射频离子源 RFICP 220,高能量射频源
上海伯东代理美国原装进口 kri 射频离子源 rficp 220 高能量栅离子源, 适用于离子溅镀, 离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 射频离子源 rficp 220 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现更佳的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 标准配置下射频离子源 rficp 220 离子能量范围
更新时间:2025-06-24
上海伯东电子束蒸镀设备 E-beam,电子束蒸发系统
上海伯东代理 syskey 台湾矽碁科技电子束蒸镀设备是一种实用且高度可靠的系统, 蒸镀系统可针对量产使用单一坩埚也可以有多个坩埚来达到产品多层膜结构. 在基板乘载上针对半导体研究和大型设备设计, 单片和多片公自转的设计可以控制蒸发速率, 薄膜厚度和均匀度小于 +/- 3%. 腔体的限真空度约为 10-8 torr. 为了获得尽可能大的制程灵活性, 可以结合美国 kri 离子源进行离子辅助沉积或
更新时间:2025-06-24
上海伯东美国 KRi 大面积射频离子源 RFICP 380,高能量离子源
上海伯东美国 kri 大口径射频离子源 rficp 380, 3层栅设计, 栅口径 38cm, 提供离子动能 100-1200ev 宽束离子束, 大离子束流 > 1000ma, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机.
更新时间:2025-06-24
上海伯东超高真空磁控溅镀设备,溅射镀膜机,真空镀膜机
上海伯东代理超高真空磁控溅镀设备 uhv sputter 广泛应用于半导体, 纳米科技, 太阳能电池,科研等行业, 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
更新时间:2025-06-24
上海伯东原子层沉积设备 Thermal ALD
上海伯东代理原子层沉积设备可以精准的控制 ald 的制程, 薄膜的厚度和均匀度皆小于 +/- 1%, 广泛应用于 oled 和硅太阳能电池的钝化层, 微机电系统, 纳米电子学, 纳米孔结构薄膜, 光学薄膜, 薄膜封装技术等域.
更新时间:2025-06-24
德国徕卡高真空镀膜机 Leica EM ACE600
leica em ace600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的fe-sem和tem应用的需要生产非常薄的,细粒度的和导电的金属和碳涂层,用于高分辨率分析。
更新时间:2025-06-24
英国HHV公司多功能镀膜设备
英国hhv公司的hhv auto系列产品是一种多功能镀膜设备(热阻蒸发、电子束蒸发和溅射可选),设计用于满足科研工作者和电子显微学家的需求。auto系列可配备各种真空系统、真空腔室和标准化工艺附件,提供一系列实验技术以满足现代化实验室的需要。张先生 139-(#qq.com)联系人:张先生 139-115145
更新时间:2025-06-23
金刚石微波等离子CVD系统
美国cts公司提供的cts-6u型6kw微波等离子金刚石cvd系统具有高度可重复的真空完整性设计特点,能够在接近大气压范围内运行,用于高沉积速率的单晶工艺。它还可以合成高纯度的高均匀性和大面积的单晶和多晶。腔室、观察窗和沉积台的设计与先进的计算机过程控制相结合,具有无人值守的安全互锁功能,可以获得高可靠性、长时间稳定性。cts-6u是最新一代cvd金刚石反应器,专为满足高产量、高质量、高性价比的生
更新时间:2025-06-23
WP-15  美国SVT超高真空解理机/解理镀膜机
svt公司的样品解理部件可以将15mm(其他尺寸可选)的方形样品解理成15个1mm×15mm的bar条。所有解理出的bar条被收集到样品托,堆叠在一起进行下一步批量加工。独特设计的解理工具避免了器件被破坏以及样品互相黏在一起的可能性。此解理工具可适用于uhv环境。解理机可以增加钝化层沉积模块。解理后堆叠在一起的bar条直接进入钝化室,不用暴露大气。
更新时间:2025-06-23
支持云端图像存储,可远程控制修改参数 野生动物调研多功能触发相机 欧尼卡源头厂家定制
欧尼卡onick am-38带彩信版野生动物红外监测相机支持3000万像素高清拍照,4k高清视频拍摄。仪器启动反应快,成像清晰,色彩真实。大可支持256gb sd存储卡,兼容各种品牌。可搭载我司自主研发的云平台图像处理系统(软著登记号:2022sr0370995),对抓拍到的图片及视频进行识别与分析,还可搭配手机app远程控制相机(软著登记号:2022sr0370994),远程控制修改参数,
更新时间:2025-06-23
上海到汉中物流公司A
上海到汉中物流公司 从上海货运到汉中需要多少钱?货运公司哪家好?推荐汉中物流400-697-cc,兢兢业业,风雨无阻,公司专业承接;
更新时间:2025-06-22
浸渍提拉镀膜机
xf803-931浸渍提拉镀膜机是适用于溶胶-凝胶法(sol--gel法,简称sg法)制备薄膜的浸渍提拉法的一款高精度仪器。核心部件采用进口配件,精准控制提拉速度,多次重复镀膜无位置偏差。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、循环镀膜次数、下降速度、停留时间均可以通过程序精确控制。适用于玻璃、si(100)、si(111)、蓝宝石(al2o3)、瓷片以及树脂基板等常用基板。
更新时间:2025-06-22
基本型提拉镀膜机
jc503-eb100提拉镀膜机是一款基本型提拉镀膜机,可自动完成在镀膜溶液中多次镀膜之需求,重复镀膜次数可达999次。所有运行参数如运行速度,提拉/浸渍高度,浸渍时间,间隔时间,重复镀膜次数等均可在触屏上方便设置。
更新时间:2025-06-22
纱线捻度机
用于测定棉、毛、丝、麻、化纤等纱线的捻度。性能符合gb/2543.1和gb/t2543.2的规定。
更新时间:2025-06-22
六工位旋转提拉镀膜机
xf801-150mm 六工位旋转提拉镀膜机浸渍提拉过程中按配方任意间隔旋转
更新时间:2025-06-22
桌面型提拉镀膜机
运行平稳无抖动,液面无振动,可保证设备的稳定性以及成膜的均匀性。 · 自主研发的程序控制系统,简洁明了、操作方便。
更新时间:2025-06-22
碾米机
本产品是根据国标gb/t21719-2008《稻整精米率检验法》*新研制,是制定国家稻谷标准中整精米率数据的*指定仪器。
更新时间:2025-06-22
优势供应比利时Almeco鼓风机-大连赫尔纳
比利时almeco鼓风机,德国总部直接采购,原装,货期,支持技术选型,为您提供一对一优势解决方案:赫尔纳大连公司在中国设有10个办事处,可为您提供的维修服务。
更新时间:2025-06-13
纵向式Cat-CVD设备
纵向式cat-cvd设备ccv系列ccv series是a-si镀膜用的纵向式cvd设备。有30年以上的量产实绩。在各个chamber通过低压镀膜,得到高品质的膜质。
更新时间:2025-06-13
枚叶式PECVD设备
枚叶式pecvd设备cme-200e/400枚叶式pe-cvd设备cme-200e/400是适用于si系绝缘膜、barrier膜等成膜的量产用pecvd设备。
更新时间:2025-06-13
Load-lock式Plasma CVD设备
load-lock式plasma cvd设备 cc-200/400load-lock式plasma cvd设备cc-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。
更新时间:2025-06-13
枚叶式等离子CVD设备
枚叶式等离子cvd设备cmd系列cmd系列是用sih4和teos成膜的a-si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚叶式cvd设备。
更新时间:2025-06-13
Ted Pella 108Auto 108镀膜仪
技术参数:l自动的换气与泄气功能,可以得到一致的膜厚,和佳的导电喷镀效果。l通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。
更新时间:2025-06-13
实验室流延薄膜机  单螺杆挤出机 小型流延薄膜机
实验室流延薄膜机 单螺杆挤出机 小型流延薄膜机型号:aod-xh-432 设备规数 型号aod-xh-25 单螺杆挤出机 机架采用型钢焊接而成,并经回应力处理,有较高的钢性,变形小。料筒及螺杆 标配:3d混炼头带分散性单螺杆料筒及螺杆
更新时间:2025-06-13
瑞士Safematic电镜制样设备CCU-010 HV_SP-010高真空离子溅射镀膜仪
紧凑型、模块化和智能化ccu-010 hv_sp-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射镀膜仪,使用非常简便。采用独特的插入式设计,变换镀膜头非常简单。在镀膜之和/或之后,可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免交叉污染。标配ftm膜厚监测装置。
更新时间:2025-06-03

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