离子溅射仪产品及厂家
日立高新磁控溅射器mc1000日立高新磁控溅射器（hitachi ion sputter )mc1000采用了电磁管电极，能够限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描
更新时间:2025-08-26
桌面式溅射仪kt-z1650pvd是一款高度集成化智能化的台式磁控溅射系统。体积小巧，但是功能出色、配置齐全。配有水冷靶，自动样品挡板，可调节溅射源距离，触摸屏控制，工艺储存等功能，方便快捷。
更新时间:2025-08-22
桌面式小型溅射仪kt-z1650pvd磁控溅射是一种常用的物理气相沉积（pvd）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好，成分接近靶材成分等众多优点。
更新时间:2025-08-22
桌面式磁控溅射仪kt-z1650pvd，外形小巧方便移动，触摸屏控制工艺记忆储存，自动电动挡板阀保护样品，石英腔室更加洁净方便清洁。
更新时间:2025-08-22
自动的换气与泄气功能，可以得到一致的膜厚，和最佳的导电喷镀效果。通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程，避免样品表面受损。操作容易快捷，可全自动或手动进行喷镀操作，控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。在自动模式下，可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。可配备mtm-10高分辨膜厚监控仪（选件）(分辨率优于0.1nm，-99.9nm到+999.9nm)数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响，可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。可使用多种金属靶材：au， au/pd,，pt,，pt/pd，ag等，靶材更换快速方便。
更新时间:2025-08-21
英国cressington高性能离子溅射仪系统是现阶段配套扫描电镜sem，透射电镜tem和电子探针最佳的配套前级样品导电处理系统以及均匀高质量的电极薄膜制备，溢鑫科创yi xin technology是cressington在中国唯一官方授权代表，全权负责此产品在国内产品销售，售后服务，市场推广和授权等工作。
更新时间:2025-08-21
专利冷态镀膜设计使用真正的“平衡磁控管”没有等离子体电流在样品，在得到高分辨非晶镀膜层同时避免样品受到热损伤，对热损伤或辐照损伤敏感样品尤为适合
更新时间:2025-08-21
分子泵超高分辨非晶层镀膜，电镜放大倍率可到300k也不会看到镀膜颗粒，非常适合于现阶段超高分辨场发射电镜或双束电镜，电子探针等，如 fei nova, megglen, verios, helios等， 日立电镜的su80000， su8200, s4800， 9000系列等， 日本电子 7600f, 7800f等， 蔡司的merlin, ultra, gemini, auriga系列等。
更新时间:2025-08-21
新一代镀膜仪-ems q150r 型镀膜仪（真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪）采用最新技术研制而成，彩色触摸液晶屏，快速的参数输入，数种碳丝匹配，友好的用户界面，带给你不一般的操作感受！
更新时间:2025-08-21
nsc-3000（m）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能，最大到6"旋转平台，最大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 torr，15分钟内可以达到10-6 torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
更新时间:2025-08-21
nsc-3000（a）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能，最大到6"旋转平台，最大可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 torr，15分钟内可以达到10-6 torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
更新时间:2025-08-21
nsc-4000（a）全自动磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能，最大到6"旋转平台，最大可支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 torr，15分钟内可以达到10-6 torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
更新时间:2025-08-21
nsc-1000磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能，最大到6"旋转平台，最大可支持到2个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 torr，15分钟内可以达到10-6 torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
更新时间:2025-08-21
●供电电源电压：ac 220v±15%/50hz或ac 110v±15%/60hz； ●工作电流：0.075a max speed； ●风量：120cfm； ●离子平衡电压：≤±5v；
更新时间:2025-08-20
jc503-bfn台式离子风机,专为局部区域而设计,具有体积超小,重量轻,安装使用方便等特点,特别适用细小型空间,具有出众的除静电性能,防止静电污染及破坏.是电子产品生产,维修等个人型静电防护区域的理想设备.
更新时间:2025-08-20
离子风枪是一种高效的静电消除装置，通过高压气流将离子发生装置所产生的大量正负离子迅速吹向所要除静电的区域，中和物体上所积累的静电电荷，同时高速离子气流将静电吸引的尘粒吹除，并阻止其再次吸引尘埃粒子；广泛适用于电子装配、徽电子制造、生物制品、制药、注塑、印刷等行业。
更新时间:2025-08-20
金华杰维修 shimadzu turbo pump controllers日本岛津ei/fti全系列涡轮分子泵控制器、磁悬浮分子泵控制器，分子泵电源，分子泵驱动器，经验丰富，检测设备齐全，技术可靠，有多种型号备用分子泵及控制器，分子泵维修配件，二手分子泵（中古泵浦）并免费提供相关技术支持。
更新时间:2025-08-18
锰离子测试仪适用于大、中、小型水厂及工矿企业、生活或工业用水的铬浓度检测，以便控制水的锰达到规定的水质标准。
更新时间:2025-08-18
它适用于样水中微量硅酸根、磷酸根、铁、铜、联氨、全铁、余氯、氨等元素的定量测定。 广泛的运用火力发电厂除盐水蒸汽、 凝结水炉水及化工、制药等行业。
更新时间:2025-08-15
总镍在线监测仪是技术上基于中国标准方法gb11910-89而研制的新一代全自动水中总镍在线分析仪，该产品是慕迪科技在多年水质分析类产品研究基础上推出的一系列免维护在线监测仪。
更新时间:2025-08-15
xf806-rcm-10混凝土氯离子扩散系数测定仪是我公司自主开发的检验混凝土的长期性耐久性性能的仪器,此仪器完全符合gb/t 50082-2009标准。
更新时间:2025-08-15
总锌在线监测仪是技术上基于中国标准方法而研制的新一代全自动水中总锌在线分析仪。经过预处理的水样由注射泵注入到一个特殊反应器中后首先与酸性氧化剂进行反应，将水样中所有形态的锌统一氧化成二价锌离子，接着调整溶液的ph值，后加入特性显色剂进行显色反应，在测量范围内，其颜色的改变程度与水样中的总锌浓度成正比，通过测量颜色变化的程度，就可以计算出水样中总锌的含量。
更新时间:2025-08-15
小型台式离子风机，具有出众的除静电性能，防止静电污染及破坏。是电子产品生产，维修台等个人型静电防护区域的理想设备。
更新时间:2025-08-15
自 1995 年以来，sindlhauser materials 一直在为各地的工业公司提供种类繁多的涂层材料，例如由氧化物和非氧化物陶瓷或结合稀土金属制成的溅射靶材，以及金属和合金。该公司还支持使用等离子技术为各种产品镀膜的行业运营。
更新时间:2025-08-13
卷绕式溅射设备spw系列spw系列设备，是可在塑料薄膜上进行光学膜、金属膜等多层成膜的卷绕式设备。实施成膜室间的气氛分隔，可以使高性能的多层膜一次性成膜。
更新时间:2025-08-13
溅射镀膜设备smd系列（立式）smd 系列是镀金属膜、ito、igzo、诱电体膜等的枚叶式溅射镀膜设备。仅smd系列就有超过1000台的丰富的采用实绩，在各种各样的生产环境下运转。及时反映从生产现场听取的意见，进一步提高设备的可靠性。
更新时间:2025-08-13
紧凑型、模块化和智能化ccu-010 lv_ct-010为一款结构紧凑、全自动型的热蒸发镀碳设备，使用非常简便。采用独特的插入式设计，可选通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射设备。在镀膜之和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免交叉污染。ccu-010系列镀膜仪标配膜厚监测装置。
更新时间:2025-08-05
紧凑型、模块化和智能化ccu-010 hv为一款结构紧凑、全自动型的高真空离子溅射和蒸发镀碳一体化镀膜仪，使用非常简便。采用独特的插入式设计，通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之和/或之后，可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。ccu-010标配膜厚监测装置。
更新时间:2025-08-05
上海康仪离子计pxs-450/离子测定仪pxs-450由上海书培实验设备有限公司为您提供，欢迎，www.shupeilab17.com，上海康仪离子计pxs-450/离子测定仪pxs-450产品介绍:
更新时间:2025-07-31
上海康仪离子计pxs-215/离子测定仪pxs-215由上海书培实验设备有限公司为您提供，欢迎，www.shupeilab17.com，上海康仪离子计pxs-215/离子测定仪pxs-215介绍：离子
更新时间:2025-07-31
上海康仪离子计pxs-350/离子测定仪pxs-350由上海书培实验设备有限公司为您提供，欢迎，www.shupeilab17.com，上海康仪离子计pxs-350/离子测定仪pxs-350产品介绍:
更新时间:2025-07-31
q150t es plus高真空离子溅射镀膜仪装在一个坚固的特制整体成型机箱中，包括空气冷却的70l/s涡轮分子泵。自动进气控制保证了镀膜期间最佳的真空条件。
更新时间:2025-07-31
q150r es plus离子溅射/碳蒸发一体化镀膜仪适用于给样品镀制不氧化金属膜（即贵金属膜），标配一块金靶，也可选配金、银、铂、钯、金/钯合金及铂/钯合金等金属靶；以及为eds样品镀制碳膜。（对于易氧化金属的溅射镀膜或需镀制tem碳支持膜，请选购q150t plus系列高真空镀膜仪）
更新时间:2025-07-31
• 装载互锁式（load lock）多腔体等离子系统• 晶圆料盒至晶圆料盒式(cassette-cassette processing)等离子处理• 破坏真空的情况下最多可沉积四种薄膜• 基片尺寸：125 x 125mm,156 x 156mm 及200mm直径基片（可采用装载器处理小尺寸基片）.• 常规薄膜：siox & sinx - a- si• 研发、试制生产及生
更新时间:2025-07-17
深反应离子刻蚀（drie）及低温等离子体增强化学气相沉积（pevcd）等离子处理系统主要性能简介. 等离子工艺处理的研发需要多功能且可靠的设备。为了满足等离子研究日新月异的要求，用户选购的系统设备满足最大范围的等离子工艺参数需要，工艺验证需要极其高的可重复性，必须方便改造用于新的等离子工艺需要。我们相信il装载互锁式（load lock）感应耦合等离子（icp）蚀刻/沉积等离子系统满足这些非常
更新时间:2025-07-17
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