等离子清洗机清除样品表面的污染物，去除光阻胶：产生表面活性功能组；清洗提高材料表面亲水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，pdms；表面活化：渲染表面的亲水性或疏水性，键合和沉积前的表面预处理表面聚合：沉积带官能分子团的聚合物，移植聚合物到活化后的材料表面；表面改性：在材料表面产生官能分子团，高分子材料表面修饰；去除表面残留微生物，医疗器械的消毒和杀菌；

ergeo em型sem及tem样品/样品杆清洁专用等离子清洁仪美国pie scientific专注研发先进的实验室用等离子仪器，用于sem/tem样品清洁、光刻胶蚀刻、等离子体增强沉积、表面处理与活化。我们的宗旨是：将半导体和核工程研究中开发的最新等离子技术集成到经济实用的实验室用等离子仪器。专为去除sem & tem样品的碳氢污染而设计。特有的双清洗模式（immersion和downstream）能够处理各种不同的样品，从严重污染的电子光学孔径光阑到各种脆弱易损样品，如石墨烯、碳纳米管、类金刚石碳膜以及多孔碳支持膜铜网上的tem样品。石英样品托板上的孔洞可以安装标准sem样品托。特别设计的适配器可以清洁不同厂家的tem样品杆。

美国pie出品的em-kleen型远程等离子清洁仪，广泛用于sem扫描电镜,fib聚焦离子束双束电镜,tem透射电镜,xps_x射线光电子能谱分析仪,ald原子层沉积系统,cd-sem, ebr, ebi, euvl和其它高真空系统，可同时清洁真空腔室和样品！污染物对电子显微镜sem/tem和其它高真空系统产生的影响

psd系列产品是数字控制的台式清洗设备，可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。设备配备一个带反射罩的高强度uv格栅灯盘, 和可调节高度的样品台，用于优化样品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系统具有进出气接口。该系统由一个方便的预设置控制器控制，非常容易操作。

清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解。激发的有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如co2,h2o等。整个过程在室温**发生，并且只需要1到几分钟完成。