干法清洗设备所有不同的厂家

干法清洗设备产品及厂家

UV-300H 紫外线臭氧清洗机

uv-300h是一款高性能的紧凑型紫外线臭氧清洗机。通过滑动抽屉将基材装入系统中。紫外线照射、高浓度臭氧和阶段性加热的组合，可温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（gan、sic、gaas、inp）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。

更新时间:2025-03-05

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

UV-1 紫外线臭氧清洗机

uv-1是一款紧凑型台式紫外线臭氧清洗机。该系统将紫外线照射、臭氧和平台加热结合在一起，温和而有效地去除硅、玻璃、化合物半导体（gan、gaas、inp、sic）、蓝宝石、陶瓷等各种基材上的有机物。

更新时间:2025-03-05

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PC-300 等离子清洗设备

pc-300是一种平行板式等离子清洗机，用于清洗样品表面的有机和无机污染。该工艺室允许用户安装多个电架，架式电配置的灵活性支持从研究到小批量生产的各种产品的批量处理。

更新时间:2025-03-05

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PTP-300等离子清洗和加热机

由德国unitemp研发的等离子清洗和加热机，大零件装载面积：305 mm x 305 mm（大零件高度为 25 mm）。

更新时间:2025-03-05

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PlasmaPen™大气式等离子清洁系统

plasmapen™ 是pva tepla的大气式等离子清洁系统，可满足各种表面处理要求，如表面清洁及表面活化。

更新时间:2025-03-05

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80 Plus条形等离子清洁系统

80 plus 条形等离子清洁系统为半导体加工而开发，可支持手动及自动操作，两种操作方式均简单易用。该系统可以配备或不配备装卸站；此外，每个装卸站都可支持不同的配置。即便没有装卸站，也可将其集成到生产线中。

更新时间:2025-03-05

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ASx 系列清洗设备

suss microtecs asx 系列为加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技术节点提供了先进的烘烤、显影和清洁方法。其可靠性、稳定性和高性能使平台能够满足无损加工掩模的要求，用于 248 nm 和 193 nm 光刻工艺。

更新时间:2025-03-05

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UC100-SE紫外臭氧清洗机

这款紫外臭氧清洗机，集成嵌入式控制系统，人性化设计，便捷高效，质量有保障，业服务，是科研与实验的理想伙伴。

更新时间:2025-03-05

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PT500等离子清洗机

lebo science的pt500真空等离子清洗机，作为plasma treatment equipment，具备以下显著特点：设备小巧，操作便捷：采用一键式操控设计，便于在科研院所等实验环

更新时间:2025-03-05

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GIGAbatch批量晶圆处理等离子系统

批量晶圆处理等离子系统采用模块化设计，其模块化控制系统使用新一代处理器，基于 linux 平台作为操作系统，以及图形用户界面 (gui)。因此，可支持手动和全自动控制过程，并且通过 mfc 控制过程气体。在此过程中，所有参数都被写入程序并存储在数据库中。与此同时，当的压力值、气体流量值、输出值等都显示在显示屏上，如果当值偏离设定值，则会触发相应的警报。

更新时间:2025-03-05

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CIF 实验室型等离子清洗机

cif 实验室型等离子清洗机设备在材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等科研域，主要用于材料表面进行清洗、活化、改性等目的。cif推出的新一代等离子体清洗设备，合理的结构设计，优化的腔体尺寸，使得处理样品更大，适用范围更广，性能更稳定，操作更简便，性价比更高，使用成本更低，实用性更强，更容易维护。

更新时间:2025-03-05

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