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双面研磨机是一款操作简单，兼容性强的高效率研磨加工设备。主要用于晶片的双面机械研磨，通过搭配不同材质的研磨盘和不同粒径及材质的研磨液，可以实现不同材料，不同尺寸，不同厚度的晶片研磨。
更新时间:2025-06-13
tsp-400/450/380晶片研磨机系列设备是落地式的高精度单面抛光设备，可搭配铜盘、锡盘、玻璃盘、不锈钢盘等，配合不同类型的抛光液，适用于各种半导体材料的高精密抛光。
更新时间:2025-06-13
单面抛光机是一款操作简单，兼容性强，搭配不同盘配合相应的液可实现多种半导体材料高精度抛光设备，抛光盘可定制，根据量产要求多种规格可选。
更新时间:2025-06-13
tap-400/600/450a/500精密研磨抛光机系列设备是两轴高精密单面抛光设备，抛光头可自转、可摆动，可实现高压力、高转速抛光，可以单片抛光，也可以多片抛光，满足各种材料的高精密抛光要求。
更新时间:2025-06-13
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