有掩模光刻机所有不同的厂家

有掩模光刻机产品及厂家

AP200/300 投影步进式光刻机

ap200/300 系列光刻系统基于 veeco 的可定制 unity 平台™构建，可提供卓越的覆盖层、分辨率和侧壁轮廓性能，并可实现高度自动化和具有成本效益的制造。这些系统特别适用于铜柱、扇出、硅通孔（tsv）和硅中介层应用。此外，该平台还具有许多特定于应用的产品功能，可实现下一代封装技术，例如增强的翘曲晶圆处理、双面对准和光学聚焦

更新时间:2025-03-05

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

DSC300投影扫描光刻机

suss microtec公司推出了其下一代投影扫描光刻机‐dsc300投影扫描光刻机。这种有的扫描光刻平台拥有三位数的产能，并达到解析度（< 2 μm）的分辨率，是1x投影光刻系统中生产成本较为低的。

更新时间:2025-03-05

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MA300 Gen3 掩模对准光刻机

ma300 gen3 掩模对准器用于 300 mm 和 200 mm 晶圆的高度自动化掩模对准平台suss microtec 的 ma300 gen3 是一款高度自动化的掩模对准平台，适用于 300 毫米和 200 毫米晶圆。它为 3d 封装、晶圆封装和倒装芯片应用而设计，但也可用于必须暴露 4 微米和 100 微米几何形状范围的其他技术。

更新时间:2025-03-05

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VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机

vpg 800 / vpg 1400 有掩膜光刻机为光掩模（0.8至1.4 m）的高通量图案化而定制。vpg1400是我们为显示行业设计的大的系统。它是平板显示器（fpd）应用的好的选择，例如 tft 阵列、彩色滤光片和 ito。这些工具还用于先进封装、半导体、led 和触摸屏应用的工业大面积光掩模应用。

更新时间:2025-03-05

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VPG 200 / VPG 400 有掩膜光刻机

vpg 200 / vpg 400 体积图形发生器是光刻系统，为 i-line 光刻胶的多用途掩模制造而设计。它们支持所有标准的中小型面罩尺寸，大尺寸为 410 x 410 mm++2.应用包括

更新时间:2025-03-05

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织雀™PL-3D Premium 高精密微3D光刻机

织雀™pl-3d premium 是托托科技自主研发的高精密微3d光刻设备，高光学分辨率可达1μm，支持大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸，设备还支持对准套刻功能，可在已有结构表面进行多材料的驳接打印，在复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构制造方面具有突出的潜能和优势。

更新时间:2025-03-05

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