有掩模光刻机所有不同的厂家

有掩模光刻机产品及厂家

DSC300投影扫描光刻机

suss microtec公司推出了其下一代投影扫描光刻机‐dsc300投影扫描光刻机。这种有的扫描光刻平台拥有三位数的产能，并达到解析度（< 2 μm）的分辨率，是1x投影光刻系统中生产成本较为低的。

更新时间:2025-06-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

MA300 Gen3 掩模对准光刻机

ma300 gen3 掩模对准器用于 300 mm 和 200 mm 晶圆的高度自动化掩模对准平台suss microtec 的 ma300 gen3 是一款高度自动化的掩模对准平台，适用于 300 毫米和 200 毫米晶圆。它为 3d 封装、晶圆封装和倒装芯片应用而设计，但也可用于必须暴露 4 微米和 100 微米几何形状范围的其他技术。

更新时间:2025-06-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻机

vpg 800 / vpg 1400 有掩膜光刻机为光掩模（0.8至1.4 m）的高通量图案化而定制。vpg1400是我们为显示行业设计的大的系统。它是平板显示器（fpd）应用的好的选择，例如 tft 阵列、彩色滤光片和 ito。这些工具还用于先进封装、半导体、led 和触摸屏应用的工业大面积光掩模应用。

更新时间:2025-06-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

VPG 200 / VPG 400 有掩膜光刻机

vpg 200 / vpg 400 体积图形发生器是光刻系统，为 i-line 光刻胶的多用途掩模制造而设计。它们支持所有标准的中小型面罩尺寸，大尺寸为 410 x 410 mm++2.应用包括

更新时间:2025-06-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

织雀™PL-3D Premium 高精密微3D光刻机

织雀™pl-3d premium 是托托科技自主研发的高精密微3d光刻设备，高光学分辨率可达1μm，支持大50 mm×50 mm×50 mm的加工尺寸，设备还支持对准套刻功能，可在已有结构表面进行多材料的驳接打印，在复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构制造方面具有突出的潜能和优势。

更新时间:2025-06-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

织雀™PL-3D 桌面式高精密3D光刻机

织雀™pl-3d 是托托科技自主研发的桌面式高精密3d光刻设备，光学精度达5μm。在复杂三维微纳结构、高深宽比微纳结构以及复合材料三维微纳结构制造方面具有突出的潜能和优势，而且还具有制造周期短、打印成本低、成型精度高、可使用材料种类多、无需掩膜版或模具直接成型的优点。

更新时间:2025-06-13

该公司产品分类：深圳市矢量科学仪器有限公司

945-51980上海祥树供应SIME备件

上海祥树欧茂机电设备有限公司成立于1999年，经过多年的努力与良好的信誉度，公司与国际机电行业品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌厂商密切合作，形成了个稳定而高效的全球化国际供应链体系，竭真探头尽全力为客户提供服务。

更新时间:2025-05-19

该公司产品分类：上海祥树欧茂机电设备有限公司