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在高真空环境中,我们发明了一种创新的in-line sputter生产技术,实现了高大量生产率和出色的品质。这款1carrier/20sheet(a4 size)产品采用了both side sputtering工艺,不仅提高了生产效率,还确保了优异的光学性能,透过率可达25%以上。
更新时间:2025-08-13
本装置在真空状态中对pet film，以ito或metal coating的设备, heating, plasma etching, sputter工序可以.
更新时间:2025-08-13
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