原子层沉积设备产品及厂家
上海祥树欧茂机电设备有限公司成立于1999年，经过多年的努力与良好的信誉度，公司与国际机电行业品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌厂商密切合作，形成了个稳定而高效的全球化国际供应链体系，竭尽全力为客户提供服务。
更新时间:2025-08-13
beneq transform 300 是一个高度通用的制造平台，面向致力于 cis、电源、micro-oled/led、先进封装和其他 mtm 应用的 idm 和代工厂。它是一种高度可配置的解决方案，适用于多种高薄膜应用，从栅电介质到钝化和/或封装等。
更新时间:2025-08-13
beneq prodigy™ 是 vcsel、led 和 mems 制造商和代工厂的理想制造解决方案，他们希望通过经济实惠的独立 ald 批处理工具提高设备性能和可靠性。beneq prodigy 为多种晶圆类型和尺寸提供同类佳的钝化和/或封装膜。
更新时间:2025-08-13
beneq transform在其多功能性和适应性方面建立了全新的ald集群工具产品，以满足广泛的应用和细分市场的需求。beneq transform 配置多个 ald 工艺模块，以满足特定的晶圆容量要求，或者在以后进行升，以响应不断增长的数量或新的 ald 应用。
更新时间:2025-08-13
beneq c2r 将等离子体增强原子层沉积 （peald） 工艺提升到一个全新的水平 – peald 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺，beneq c2r 是厚原子层沉积膜的理想选择，甚至可达几微米。
更新时间:2025-08-13
beneq p400a 为以优化的批量大小涂覆不同类型的基材而设计 - 足够大以提供显着的容量，但又足够小以在批次和较短的循环时间内保持出色的均匀性。我们的客户将 p400a 用于光学镀膜和在玻璃或金属板上使用 ald 的应用。
更新时间:2025-08-13
beneq p800 门设计用于涂覆复杂形状的大零件或大批量的小零件。我们的客户将 p800 用于光学镀膜、半导体设备部件的防腐镀膜，以及在玻璃或金属板上使用 ald 的各种应用。
更新时间:2025-08-13
beneq p1500 是我们大的原子层沉积系统，门用于涂覆大型板材和复杂零件。它还用于为较小组件的批次提供更高的吞吐量。我们的客户将 p1500 用于大直径基板上的光学镀膜、半导体设备部件的防腐镀膜，以及在玻璃或金属板上使用 ald 的各种应用。
更新时间:2025-08-13
beneq tfs 200 是有史以来灵活的原子层沉积研究平台，为学术研究和企业研发而设计。beneq tfs 200 经过门设计，可大限度地减少多用户研究环境中可能发生的任何交叉污染。tfs 500 是薄膜镀膜应用的理想选择。作为第一个 beneq 反应器模型，已被证明是用于深入研究原子层沉积研究和稳健批处理的多功能工具。tfs 500 是多项目环境的理想工具。
更新时间:2025-08-13
用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 genesis ald 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。
更新时间:2025-08-13
tfs 200 是一款适用于科学研究和企业研发的灵活的 ald 平台。 tfs 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至低而特别设计的。
更新时间:2025-08-13
ad-230lp是一种原子层沉积（ald）系统，能够在原子水平上控制薄膜厚度。有机金属原料和氧化剂交替供给反应室，仅通过表面反应进行薄膜沉积。该系统具有负载锁定室，且不向大气开放反应室，因此能够实现薄膜沉积的优良再现性。
更新时间:2025-08-13
用于电池、太阳能和柔性电子产品的功能性原子层沉积涂层。 genesis ald 是涂布任何卷筒格式基材以及多种功能应用的理想选择。多种 ald 材料可供选择，可满足您的要求。 多年来，beneq 一直是用于研发和工业生产的卷对卷原子层沉积系统的先驱。我们的常用材料包括 al?o?、tio?、zno、zns、sio? 或可根据要求提供的任何其他材料。
更新时间:2025-08-13
phoenix®系统经过精心设计，可在从中试生产到工业制造的任何制造环境中实现高吞吐量和长的正常运行时间。技术人员和研究人员依靠 phoenix® 在平面和 3d 基板上实现可
更新时间:2025-08-13
veeco 是全球先的原子层沉积 （ald） 系统供应商，为研究和工业提供全面的服务和多功能的交钥匙系统，这些系统易于访问、经济实惠且精确到原子尺度。薄膜沉积是我们的长。我们的 savannah&
更新时间:2025-08-13
我们的 fiji® 系列是一种模块化、高真空热原子层沉积系统，采用灵活的架构和多种驱体和等离子体气体配置，可适应各种沉积模式。fiji g2 是下一代 ald 系统，能够执行热成像和等离子体增强沉积。
更新时间:2025-08-13
ad-230lp 原子层沉积设备是一种原子层沉积（ald）系统，能够在原子水平上控制薄膜厚度。有机金属原料和氧化剂交替供给反应室，仅通过表面反应进行薄膜沉积。该系统具有负载锁定室，且不向大气开放反应室，因此能够实现薄膜沉积的优良再现性。
更新时间:2025-08-13
kurt j. lesker company （kjlc） ald150lx™是一种原子层沉积 （ald） 系统，为高研发 （r&d） 应用而设计。创新的ald150lx设计功能，如我
更新时间:2025-08-13
kurt j. lesker company （kjlc） ald150le™是我们但其灵活的原子层沉积 （ald） 系统，为入门到中用户而设计。该ald150le™配置为纯热原子层沉积，工艺室设计促进了均匀的母离子分散和输送。加热和温度控制进一步增强了系统性能。总体而言，该ald150le™在紧凑的设计中提供了的灵活性和性能，而不会牺牲可维护性。
更新时间:2025-08-13
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