光学平台产品及厂家
evg610是一款非常灵活的适用于研发和小批量试产的对准系统，可处理大200mm之内的各种规格的晶片。evg610支持各种标准的光刻工艺，例如：真空、软、硬接触和接近曝光；也支持其他特殊的应用，如键合对准、纳米压印光刻、微接触印刷等。系统中的工具更换非常简便快捷，每次更换都可在一分钟之内完成，而不需要门的工程人员和培训，非常适合大学、研究所的科研实验和小批量生产。
更新时间:2025-07-02
奥地利evg键合机：evg510，是一款半自动晶圆键合系统，可以处理大200mm的晶圆，非常适合于研发和小批量生产。evg510提供了除上料和下料外的全自动工艺处理过程，并配备了业界公认的优异的加热和压力均匀性系统。evg510模块化的键合腔室设计可用于150mm或200mm晶圆键合，并且其工艺菜单与evg其他更高系列的键合机相匹配，可以方便的实现从实验线到量产线的工艺复制。
更新时间:2025-07-02
evg520is是一款设计用于小批量生产的半自动晶圆键合系统， 大硅片允许尺寸为200mm。集evg新技术及客户反馈基础上设计的evg520is，配备了evg公司的利吸盘设计---这种吸盘可以提供对称的快速加热和冷却功能。evg520is的很多优势特性，如独立的上下盘加热和高压键合工艺、高度的材料和工艺灵活性等，都帮助客户很好的实施键合研究和生产。
更新时间:2025-07-02
evg620 单面/双面光刻机(带有压印功能），evg620 是一款非常灵活和可靠的光刻设备，可配置为半自动也可以为全自动形式。evg620 既可以用作双面光刻机也可以用作 150mm 硅片的精确对准设备；既可以用作研发设备，也可以用作量产设备。精密的契型补偿
更新时间:2025-07-02
美国neocera 脉冲激光沉积系统pioneer 180-2-pld,一种用途广泛的、用于薄膜沉积以及纳米结构和纳米粒子合成的方法
更新时间:2025-07-02
2英寸氮化镓自支撑晶片, 10×10.5mm²氮化镓自支撑晶片, 非性/半性氮化镓自支撑晶片, 4英寸氮化镓厚膜晶片, 2英寸氮化铝厚膜晶片, 2英寸氮化镓厚膜晶片
更新时间:2025-07-02
法国annealsys 高温退火炉as-one, 多用途快速热处理设备，适用于硅，化合物半导体，太阳能电池& mems.
更新时间:2025-07-02
日本elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机els-f125，是elionix推出的上台加速电压达125kv的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。
更新时间:2025-07-02
日本elionix 超高精密电子束光刻系统 els-f150, 是上第 个150千伏电子束光刻系统。支持单位纳米用于高研究的设备制造。
更新时间:2025-07-02
日本电子 jsm-7610fplus，用于纳米科学的肖特基场发射扫描电子显微镜， 是款采用半浸没式物镜、拥有超高分辨率的场发射扫描电子显heidelberg 海德堡 μmla桌面无掩模光刻机
更新时间:2025-07-02
dwl 66+激光光刻系统是具经济效益的高分辨率图像产生器, 具有多种直写模块，实现不同精度直写需求, 能于结构上进行灰度曝光
更新时间:2025-07-02
德国海德堡 heidelberg 激光直写光刻机 mla150,德国高精密激光直写绘图机,非接触式曝光,可支持高效数位光刻与灰度光刻.
更新时间:2025-07-02
octoplus 500 mbe系统是为了在6英寸衬底上生长高质量的iii/v族或者ii-vi族异质结构材料而研发业分子束外延系统。样品台选用热解石墨加热或者钨、钽加热丝。标准的octoplus 500有11个呈放射状分布的源孔，可以根据需要增选3个源孔。
更新时间:2025-07-02
德国leica em txp全新精研一体机，是一款独特的可对目标区域进行精确定位的表面处理工具，特别适合于sem，tem及lm观察之对样品进行切割、抛光等系列处理。它尤其适合于制备高难度样品，如需要对目标精细定位或需对肉眼难以观察的微小目标进行定点处理。
更新时间:2025-07-02
keyence 基恩士 形状测量激光显微系统全新 vk-x3000，纳米 / 微米 / 毫米，一台即可完成测量。292 种分析工具，一台即可了解希望获取的信息。一台即包含了光学显微镜，台阶仪，光学轮廓仪，及电镜功能。
更新时间:2025-07-02
日本rion液体光学颗粒度仪ks-19f,宽广的测试范围，可测试 0.03~0.13um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。octoplus 400 是一款通用型mbe系统，非常适合于iii/v族， ii/vi族，及其他复合半导体材料应用。兼容2-4英寸标准晶片。竖直分割式腔体设计，可以装配各种源炉，实现不同材料分子束外延生长。
更新时间:2025-07-02
evg的hercules nil 300 mm是一个完全集成的纳米压印系统，是evg的nil产品组合的新成员。 hercules nil基于模块化平台，在单个平台上将清洗模块，抗蚀剂涂层模块和烘烤预处理模块与evg的有smartnil大面积纳米压印（nil）模块结合在一起，用于直径大为300 mm的晶片。
更新时间:2025-07-02
evg720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。evg720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。
更新时间:2025-07-02
液体光学颗粒度仪 ks-42c，宽广的测试范围，可测试 0.5~20um 之间的颗粒只需要小小的样品取样量就可以得到高效率高精准的颗粒数据。
更新时间:2025-07-02
美国 lakeshore 振动样品磁强计 8600系列：model 8604, model 8607, 更科学，更高效
更新时间:2025-07-02
德国yxlon 定制化的标准x射线检测系统cheetah evo，为封装检测、半导体及实验室应用量身定制、
更新时间:2025-07-02
德国yxlon 定制化的紧凑型标准x射线检测系统cougar evo ，为封装检测、半导体及实验室应用量身定制
更新时间:2025-07-02
韩ecopia 变温光霍尔效应测试仪 hms-7000，可以通过改变照射在样品上的不同波长范围的光源（红、绿、蓝光源）， 得出载流子浓度、迁移率、电阻率及霍尔系数等半导体电学重要参数随光源强度变化的曲线。
更新时间:2025-07-02
日本rion光遮蔽粒子计数器 kl-05,（光渗透法），可测试粒径范围：1~20个通道范围，1.3μm~100（0.1μm的间隔）大粒子数浓度：10 000 颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2025-07-02
日本rion液体光学颗粒度仪：ks-93( 光散射法），大粒子数浓度：30 000 颗/l （误差值低于5%），粒径范围（5个通道）：≥0.1μm， ≥0.15μm ， ≥0.2μm ， ≥0.3μm, ≥0.5μm， ≥25μm
更新时间:2025-07-02
日本rion粒子计数器：kc-22a ( 光散射法）,大粒子数浓度：10000颗/l （误差值低于5%）,可检测从纯水到氢氟酸各种各样的液体。
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：kc-32 ( 光散射法）测试粒径（6个通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：kc-20a ( 光散射法）,测试粒径（5个通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm
更新时间:2025-07-02
日本rio液体粒子计数器ke-18fx ( 光散射法）,测试粒径（4个通道）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm，
更新时间:2025-07-02
日本rion液体光学颗粒度仪 ks-42d ( 光散射法），大粒子数浓度：10 000 颗/l （误差值低于10%），粒径范围（8个通道，出厂默认）：≥2μm， ≥3μm ， ≥5μm ， ≥7μm, ≥10μm， ≥25μm ， ≥50μm ， ≥100μm(可选 ≥150μm）
更新时间:2025-07-02
日本rion粒子计数器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子数浓度：15 000 颗/l （误差值低于10%）, 粒径范围（4个通道，工厂标配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：kl-30a ( 光散射法）, 测纯水，可打印。大粒子数浓度：15 000 颗/l （误差值低于10%）, 粒径范围（4个通道，出厂设置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：kl-30b ( 光散射法）, 测纯水，可打印。大粒子数浓度：200 000 颗/l （误差值低于10%），粒径范围（4个通道，出厂设置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新时间:2025-07-02
日本rion 手持式粒子计数器：kc-51( 光散射方式）,大粒子数浓度：140 000 000颗/m³ （误差值低于10%）
更新时间:2025-07-02
日本rion 手持式粒子计数器：kc-52( 光散射方式）,粒径范围：5个通道： 0.3μm ， 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子数浓度：140 000 000颗/m³ （误差值低于10%）
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：ka-02( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（2个通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子数浓度：140 000 000颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：ka-03( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（5个通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm ，≥1μm ， ≥2μm ，≥5μm ，大粒子数浓度：140 000 000颗/l （误差值低于10%）
更新时间:2025-07-02
日本rion气体粒子计数器：ka-82( 光散射方式）,多点监视用粒子计数器，测试粒径（5个通道）：≥0.1μm ， ≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm ，大粒子数浓度：10 000颗/l （误差值低于5%）
更新时间:2025-07-02
玻璃去油墨设备,采用订制紫外纳激光器对玻璃表面进行去油墨以及油墨微加工， 将产品损伤降至低。
更新时间:2025-07-02
oai 800型光学正面和背面光刻机系统, 是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。它提供其精确的(1碌m - 2 m碌)对准精度,旨在大大超过任何红外背后对准器性能的一个非常有竞争力的价格。通用模型800光刻机是理想的用于低产量、研发实验室和大学。
更新时间:2025-07-02
瑞士nanofrazor 3d纳米结构高速直写机，源于发明stm和afm的ibm苏黎世研发中心，是其在纳米加工技术的新研究成果。nanofrazor纳米3d结构直写机第 一次将纳米尺度下的3d结构直写工艺快速化、稳定化。
更新时间:2025-07-02
nanoarch科研3d打印机m160 ，本套系统创新地使用了自动化的多材料送料系统，兼顾高精度和多材料打印，可支持同时打印4种树脂基复合材料进行层间或层内多材料3d打印，适用于基础理论验证及原理创新研究，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。其主要应用在点阵结构材料、功能梯度材料、超材料、复合材料、复杂微流控，多材料4d打印等方面。
更新时间:2025-07-02
nanoarch微纳3d打印机 p130/s130 ，科研3d打印系统，拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚，从而实现超高精度的样件制作，非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。
更新时间:2025-07-02
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