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真空电弧炉
本设备可以在不破坏真空或是保护气氛的情况下进行样品的反转熔炼,可以同时制备多个样品(7个以下),用于新型合金材料的制备、提纯及混合应用,也可以用于熔炼高熔点金属/合金,电弧法制备大块非晶材料。本设备采用双层水冷结构,配备水冷循环机(加去离子水)使设备可以快速冷却,适用于高校、科研院所及企业进行真空冶金新材料的科研与小批量制备。
更新时间:2025-07-03
脉冲激光沉积镀膜机
系统由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。1、★★外延室:极限真空优于:5.0x10-8pa真空漏率小于2.0x10-8pa.l/s
更新时间:2025-07-03
磁控溅射镀膜机
该设备是一款小型磁控溅射镀膜仪,主要特点是设备体积小,结构简单紧凑易于操作,对实验室供电要求低;该系列设备主要部件采用进口或者国内最优的配置,从而提高设备的稳定性;另外自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。该设备标配2只φ2英寸永磁靶,一台500w直流溅射电源(用于溅射金属导电材料),1台300w全自动匹配射频溅射电源(用于
更新时间:2025-07-03

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