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芬兰KxS Technologies半导体晶圆化学监测仪
价格:¥ 电议
品牌名称:$brandModel.Title型号:DCM-10 原产地:欧洲 更新时间:2026/10/9 7:24:59
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详细内容
芬兰KxS Technologies半导体晶圆化学监测仪
赫尔纳供应芬兰KxS Technologies半导体晶圆化学监测仪,德国总部直接采购,近30年进口工业品经验,原装产品,支持选型,为您提供一对一的解决方案:货期稳定,报价,价格优,在中国设有8大办事处提供相关售后服务。
芬兰KxS Technologies是一家专注于工业过程测量技术研发和生产的企业。该公司提供的半导体晶圆制造用化学监测仪,主要用于半导体制造过程中各类化学药液浓度的在线分析与控制。
一、产品类型
该品牌主要产品类型包括:
在线化学浓度监测仪
化学液混合配比控制系统
蚀刻工艺终点检测系统
CMP slurry密度监测仪
高纯化学品输送监测系统
湿法工艺槽液浓度控制设备
二、主要型号
目前该品牌主要型号有:
DCM-10
RIM-S200
CCM-3000
SDS-500
EMM-400
SCM-200
WCM-1000
三、产品介绍
以DCM-10型号为例,该设备为在线式折射率监测仪,采用原位测量原理。通过测量液体的折射率变化来推算化学浓度,适用于多种半导体工艺药液的实时监测。
主要技术参数:
测量范围:1.3200-1.5300 RIU
测量精度:±0.0001 RIU
温度补偿范围:0-100℃
过程连接:1/4" FNPT
接液材质:PTFE/哈氏合金
输出信号:4-20mA/Modbus TCP
四、优势特点
多化学品适应性:可测量HF、H2O2、NH4OH等多种半导体常用化学品
实时在线测量:直接安装于工艺管道或槽体,实现不间断监测
耐腐蚀设计:采用氟材料密封和耐腐蚀合金接液部件
温度自动补偿:内置温度传感器,自动校正温度变化影响
数据通讯功能:支持标准工业通讯协议,便于系统集成
五、主要应用
CMP工艺中slurry浓度的在线监测与控制
湿法刻蚀工艺中蚀刻液浓度的实时监测
晶圆清洗过程中SC-1、SC-2等清洗液的浓度配比验证
光刻胶去除工艺中化学药液的活性维持
化学品配送系统的浓度校验与质量控制
该类设备为半导体制造过程中的化学液浓度控制提供了测量手段,有助于保持工艺稳定性和产品良率。
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热门标签:芬兰KxS,半导体晶圆化学监测仪,在线化学浓度监测仪
















