防腐型HMDS真空烘箱 HMDS耐腐蚀预处理系统的特殊性

用于在纳米压印光刻中在脱模期间降低表面粘附力。脱模剂全氟癸基三氯硅烷FDTS或全氟辛基三氯硅烷PFTS.

用硅 烷 偶联剂（如HMDS/KH550、FDTS、PFTS、OTS），广泛应用于电子、光学、医药等领域，如用作半导体器件的防潮、光学器件的防污等。

防腐型HMDS真空烘箱 HMDS耐腐蚀预处理系统的结构

真空性能：极限真空50pa（可定制）

产品处理空间：20-3000L支持定制）

防腐配置：防腐型HMDS真空烘箱采用防腐型材料内腔，防腐专用真空泵，防腐专用阀门。

温控性能：200/400℃，±0.5℃波动度

真空性能：极限真空50pa（可定制）

操控方式：配置进口精密PID智能温控器、彩色触摸屏人机界面+PLC,

配方性能：5组配方储存，可实施修改编辑，可扩展多配方

产品兼容性：1-12晶圆及方片、蓝宝石、1000*1000mm玻璃、面板、陶瓷纤维板材及各种卷材，20-3000L支持定制。

储液瓶：25-1000ml储液瓶

真空泵：防腐专用无油涡旋真空泵

数据处理：数据可记录、MES通讯、上位机连接等

功能：去水烘烤、（抗抗剂）偶联剂涂布、蒸镀固化、废气排放工艺基于一体。

更多用途,半导体制造/纳米压印光电面板处理/陶瓷新材料/纳米多孔陶瓷材料/碳纤维材料/碳化硅材料等新型复合材料。