您好,欢迎来到阿仪网! 请登录 免费注册

诚信档案

上海隽思实验仪器有限公司

第13年

product

当前位置:阿仪网    >   半导体行业专用仪器设备    >   光刻及涂胶显影设备    >  其他    >  上海隽思实验仪器有限公司   >   产品展示    >  半导体设备    >   HMDS烤箱   >   反转真空烘箱 图像反转氨气炉 Lmage inversion Oven

反转真空烘箱 图像反转氨气炉 Lmage inversion Oven

  • 参考价:咨询
  • 型号:
  • 品牌: $brandModel.Title
  • 所属地区:中国大陆
  • 原产地:上海-上海市
  • 产品摘要:反转真空烘箱 图像反转氨气炉 Lmage inversion Oven图像反转(image inversion)是一种使用正胶和暗场掩模版做出岛区的工艺。

服务

  • 品质保障·资金安全·售后无忧

产品完善度:

更新时间:2026/10/22 11:41:47关注度:1294

关键词标签:氨气烘箱,氨气反转,图像反转

支付方式:

  • 支付宝 微信 银行转账

反转真空烘箱 图像反转氨气炉 Lmage inversion Oven用途


图像反转(image inversion)是一种使用正胶和暗场掩模版做出岛区的工艺。

在曝光小尺寸图形时,倾向于使用正胶。正胶适于使用暗场掩模版做孔洞。暗场掩模版大部分被铬覆盖,因为铬不会像玻璃一样易损,所以缺陷比抛光较少。然而,一些掩模版用来曝光岛区。而不是孔洞,比如金属层掩模版上是岛区图形。

在曝光结束后,光刻胶里的图像与想要得到的图像是相反的,也就是说,如果抛光接着显影的话,会得到孔洞而不是岛区。

反转真空烘箱 图像反转氨气炉 Lmage inversion Oven性能

尺寸(可定制)

300×300×300(mm)

450×450×450(mm),可定制

材质

内箱采用SUS304不锈钢,外箱采用优质冷轧板静电喷塑

温度范围

RT+50-200℃

温度分辨率

0.1℃

温度波动度

≤±1℃

操作模式

人机界面

升温速率

≤5℃/min

气体

2路供气

真空度

0.1~100KPa


反转真空烘箱 图像反转氨气炉 Lmage inversion Oven

已经在很多领域得到了广泛应用。比如,在汽车制造业中,可以用于钣金加热、淬火、退火、焊接等工艺;在电子制造业中,可以用于半导体器件制造中的退火和腐蚀等工艺;在航空航天制造业中,可以用于航空发动机和航天器材料的热处理等。








快速导航

在线咨询5分钟应答

提交