图像翻转烘箱，光刻图形反转设备工艺原理：

光刻图形反转是一种特殊的工艺，用于制作‌半导体器件。在曝光结束后，光刻胶中的图像与想要得到的图像是相反的，即曝光区域在显影后会形成孔洞而不是岛区。这种工艺主要用于制作孔洞结构，通过改变曝光区域和非曝光区域的相对分解率来实现。

图像翻转烘箱，光刻图形反转设备的应用：

光刻图形反转工艺主要用于剥离过程，特别是在柔性电极、电极的制作以及其他一些MEMS器件工艺中。通过底切侧壁形态，可以防止沉积的材料在光刻胶边缘和侧壁上形成连续薄膜，有助于获得干净的剥离光刻胶结构。

光刻图形反转设备的性能：