掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子、集成光电子制造中光刻工艺所使用的图形母版， 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到晶圆上。

掩模版在设计时有着明场和暗场之分，在其与之光刻胶（正、负胶）曝光时可以根据工艺时的需要来选择设计。上文已经提到正光刻胶曝光区域被溶解，负胶则相反。

掩膜版主要由基板和遮光膜两个部分组成。基板分为树脂基板和玻璃基板，玻璃基板主要包括石英基板和苏打基板，根据遮光膜种类的不同，可以分为硬质遮光膜和乳胶。

掩膜版HMDS真空烘箱 光罩hmds烘箱 hmds预处理烤箱功能

材质：内箱采用316L医用不锈钢

工艺温度：100-150℃

温度分辨率：0.1℃

温度波动度：≤±0.5

真空度：≤133pa（1torr）

操作界面：人机界面，一键作业

层数:1-2层

HMDS控制:可控制HMDS药液的添加量

图像处理：图像反转

真空泵: 进口无油泵

保护装置：紧急停止，HMDS药液泄漏报&警提示，HMDS低液位报&警，超温保护，漏电保护，过热保护等

掩膜版HMDS真空烘箱 光罩hmds烘箱 hmds预处理烤箱使基底表面由亲水性变为疏水性，增强表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。适用于硅片、麟化铟、砷化镓、陶瓷、不锈钢、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料。