碳化硅HMDS烘箱，SiC衬底HMDS烤箱的作用

HMDS烘箱将HMDS气相沉积至半导体制造中氮化镓（GaN）和、碳化硅（SiC）、硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

碳化硅HMDS烘箱，SiC衬底HMDS烤箱主要性能：

空间(mm)：300*300*300

450*450*450

600*600*600，可定制

适用产品：兼容1-12寸晶圆及碎片

温度范围：RT+10-250℃

温度稳定度：≤±0.5℃

真空度：≤133pa（1torr）

材质：316L不锈钢+冷轧板喷塑

HMDS系统：密闭设计，自动开启，数据可设定

液位计：低液位报警

储液瓶：HMDS储液量1000ml

真空泵：无油涡旋真空泵

运行时间：20Min

计量单位：S/Pa

运行方式：自动运行

进气：N2

排气：有机排放

电源：220V、50-60HZ

功率：2800W