抗粘剂气相成底膜烘箱，抗粘剂气相沉积系统

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品牌： $brandModel.Title
所属地区：中国大陆
原产地：-
产品摘要：抗粘剂气相成底膜烘箱，抗粘剂气相沉积系统主要用于纳米压印光刻（NIL）应用，防粘涂层的制备，可用于光刻工艺中HMDS增粘剂涂胶；以及功率半导体,LED,MEMS,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。

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更新时间：2026/11/6 9:45:40关注度：1098

关键词标签：抗粘剂气相成底膜烘箱,抗粘剂气相沉积系统

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抗粘剂气相成底膜烘箱，抗粘剂气相沉积系统的用途：
在纳米压印工艺中，要求作为压印胶的聚合物和基底材料之间能有较强的附着能力，这样才能保证在退模过程中不会与基底脱离而导致结构被破坏;同时聚合物和模板之间应有尽可能低的界面能，以防止在退模过程中因聚合物与模板之间发生粘连影响压印质量用然可以通过选择合适的材料满足这样的要求。因此更多的是采用在模板上修饰抗粘层的办法。目主要有以下方法在模板上制备抗粘层。
抗粘剂气相成底膜烘箱，抗粘剂气相沉积系统主要用于纳米压印光刻（NIL）应用，防粘涂层的制备，可用于光刻工艺中HMDS增粘剂涂胶；以及功率半导体,LED,MEMS,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。
抗粘剂气相成底膜烘箱，抗粘剂气相沉积系统技术性能：
容量：1-12寸均可，300*300*300,450*450*450，600*600*600（mm）
硅烷添加剂：1-2种
内箱体材质：316L不锈钢
气体输入：1个（氮气）
工作温度范围：80-200/300°C
腔室压力控制：1tor~100tor
硅烷添加量：2 – 100mL
工艺选择：可同时设定5个工艺
正常运行时间：> 95％
涂胶原理：气相沉积法
真空泵：干泵
电源及总功率：AC 220V±10% / 50HZ ， 3.5KW
控制方式：人机交互+PLC智能操作
操作方式：一键运行/手动操作