HMDS烘箱是将晶圆表面暴露于蒸汽态的HMDS的方式气相涂胶。气相HMDS主要是用来增黏的作用。

HMDS中文名六甲基二硅氮烷，是一种有机物，在水中的溶解性很低，但它可与多种有机溶剂混溶，比如醇、醚和多数非性溶剂。溶剂清洗：可以使用有机溶剂溶剂（如异丙醇）来清洗晶圆，以去除多余的HMDS。

HMDS烘箱的作用

HMDS烘箱也称为HMDS预处理系统，HMDS蒸镀机等，是将HMDS蒸汽通过干燥的真空腔内加热到一 定温度，在衬底表面上HMDS作为单层膜进行化学结合，使这样的衬底表面具有疏水性。

HMDS烘箱性能

温度范围：RT+10-250℃

真空度：≤1torr

控制仪表：彩色触摸屏控制，操作更加简单，方便

HMDS工艺：蒸汽气相涂布

安全检测：超温保护，HMDS泄漏检测提示

储液瓶：HMDS储液瓶

真空泵：无油涡旋真空泵

工作室（mm）：300*300*300/450*450*450、定制

HMDS烘箱用于集成电路光刻工艺。适用于MEMS、滤波、放大、功率等器件，晶圆、玻璃、贵金属，SiC(碳化硅)、GaN(氮化镓)、ZnO（氧化锌）、GaO（氧化镓）、金刚石等第三代半导体材料。该设备结合了有 效的真空烘烤和蒸汽气相涂布应用方法。在使用同一腔室过程的过程，为脱水和蒸汽灌注创造了一个加热的真空环境，大大降低了晶片再水化或污染的风险。同时，提高了安全性，具有更好的安全保障。

原创作者：上海隽思实验仪器有限公司