HMDS烘箱也称为智能型HMDS真空系统，HMDS预处理系统等。半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面的氧化物的形式存在的二氧化硅以及大多数金属在暴露于大气中在一定的湿度下、足够长时间后在其表面形成性OH键。这种衬底是亲水性的，因此对光刻胶的非性或低性树脂分子具有较差的亲和力。为了使这样的衬底表面具有疏水性，可以用化学方法将HMDS等非性分子附着在其表面上，需要HMDS烘烤箱来处理。

HMDS烘箱处理的优势HMDS是蒸发镀膜，涂布厚度佳、均匀性好。旋涂式涂布厚度较厚，烘烤过程中有氨气释放，导致一些不利情况出现。

HMDS烘箱技术性能：
1.工作室尺寸：450×450×450（mm）可自定

2.材质：内箱采用316L医用不锈钢

3.温度范围：RT+10-250℃

4.温度分辨率：0.1℃

5.温度波动度：≤±0.5℃

6.真空度： ≤133pa（1torr）

7.真空泵： 涡旋干泵

原创作者：上海隽思实验仪器有限公司