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公司新闻
国内研发成功IC光刻系统精密紫外反光镜
点击次数:1158发布时间:2015/5/26 15:29:09
沈阳仪表科学研究院在大力开发IC装备整机设备的同时,还在积极研制IC装备核心零部件产品。经过两年多的技术攻关,仪表院光学公司成功研制出具有自主知识产权的IC光刻系统精密紫外反光镜产品。
精密紫外反光镜是IC光刻系统的关键部件,还用于紫外曝光机、紫外固化机、医疗设备和晒版机等设备,在光显示和电子等领域广泛应用。由于设计制造难度大、工艺技术复杂,长期以来只能依赖进口。2013年初,汇博光学成立专项研究小组,有计划开展IC光刻系统用紫外反光镜产品研究开发工作。研发小组结合光学公司多年的反光镜产品设计研发经验,收集国际前沿技术信息,自主创新,积极开拓,成功开发出国际水平的IC光刻系统精密紫外反光镜产品。
此产品可耐高温450℃,利用自主创新工艺实现非球面成形。反射波段范围在300nm-440nm,反射率大于95%,达到反射紫外光滤除其它可见光的目的。关键技术指标均达到国际先进水平。
IC光刻系统精密紫外反光镜产品的成功开发,填补了该项技术的国内空白,在精密非球面加工和检测技术、非球面耐高温薄膜的镀制等方面均获得技术突破,将有力推动光学薄膜行业的技术进步。







