球形二氧化硅球形硅微粉高速分散机
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详细内容
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球形二氧化硅是一种颗粒呈球形的二氧化硅粉体材料,球形二氧化硅,颗粒呈规整球状,流动性好、填充率高、应力低、绝缘、低介电、磨损小,是电子新材料最主流的无机填料之一,和棱角形硅微粉拉开档次差距,主要应用于电子封装,覆铜板,集成电路,半导体等领域,具有高纯度、高流动性、低膨胀系数等特性。
国内产品质量较好的企业使用的分散方式主要采取一步法的高速剪切分散,能基本满足用户的需要。由于我们行业的特点,有相当多的中小企业分散设备十分落后,分散时根本形成不了剪切力,只是一种搅拌,从而无法发挥材料的性能。造成这种情况的主要原因;
1尚未对分散的作用有正确的认识,许多生产商并未意识到分散的重要性;
2不知道对”终产品的品质如何评价。
球形二氧化硅
纳米、亚微米球形二氧化硅表面能高,极易形成硬团聚;团聚体混入树脂、胶液、抛光浆料后,会造成板面针孔、抛光划伤、沉降分层、塑封料填充不均;
工艺目标是解开团聚,保留原生球形颗粒;剪切不足,团聚拆不开;剪切太强,球体破碎、形貌破坏,丧失球形硅微粉价值;
电子级浆料对杂质管控严苛,不能引入金属磨屑、密封油脂污染;
浆料体系多样:水相、醇相、环氧、聚氨酯等树脂体系,部分溶剂工况需要防爆;
传统釜搅拌仅宏观混合,团聚分散不、批次稳定性差;砂磨机、珠磨机依靠研磨介质撞击,极易击碎微球,不适合球形二氧化硅配浆。

模块化梯度剪切头,剪切强度分级可调(核心优势)可选用温和解聚型分散头,弱化冲击型剪切;通过定转子组合控制剪切能级,充分打散硬团聚,同时避免强冲击破坏二氧化硅球形形貌,保障粉体流动性、低应力、低磨损等核心特性;同机型可更换剪切头,适配 CMP 抛光液、塑封料浆料、隔膜涂层浆料等不同配方。
丹佛斯变频驱动,转速稳定、工艺可放大配套丹佛斯 FC302/iC7 变频器,转矩响应平稳,负载波动时转速不漂移;转速宽范围连续可调,小试、中试、量产机型保持一致剪切线速度,工艺参数直接平移,消除放大效应,保障不同批次浆料分散一致性。
高纯耐磨材质,满足电子粉体低杂质要求标准配置 316L 不锈钢镜面抛光;高磨蚀工况可选碳化钨、陶瓷转子定子;博格曼双端面机械密封,可接入密封冲洗水,杜绝润滑油渗入浆料,避免杂质污染,适配芯片材料、CMP 抛光液等高纯度要求场景。
夹套温控设计,抑制剪切温升双层冷却夹套,快速带走剪切热,防止浆料升温导致分散剂失效、树脂提前反应,保障体系稳定性。
密闭管线式连续结构,适配自动化产线密闭在线连续生产,无粉尘;可对接粉体加料系统、计量罐、过滤单元组成连续配浆产线;拆装简单、支持 CIP 清洗,方便切换不同粒径、不同牌号球形二氧化硅配方。

IKN管线式高速均质粉碎机与国内普通均质机比较:
转速和剪切力:
guo内普通均质机,3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速
线速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S
作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1
IKN高速均质粉碎机,9000/14000RPM通过皮带加速
线速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S
作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1
这是研磨粉碎的重要因素,相当于后者是者的4-5倍
设备设计构造:
guo内普通均质机,卧室直联结构,运行时间长,容易造成轴的偏心,运转不正常,需要业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴
IKN高速均质粉碎机,立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。
密封:
guo内普通均质机,填料密封或骨架密封,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁
IKN高速均质粉碎机,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至zui低,可24小时不停运转,特殊德国PDFE轴封,可以运行10000小时,可选择德国高品质机械密封,在一般的情况下,我们的机械密封可以zui大承受16bar 压力,根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13 bar .
产品效果:
guo内普通均质机,粒径细度有限,10微米以下较困难,重复性差,产品粒径分布不均匀
IKN高速均质粉碎机,可实现0.1-1微米的颗粒加工,粒径分布均匀,纳米分散乳化粉碎
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