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纳米硅粉高剪切研磨分散机
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品牌名称：$brandModel.Title型号：CMSD200005 原产地：中国大陆 更新时间：2026/11/11 8:38:25
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详细内容
纳米硅粉的用途广泛，比如用纳米硅粉做成纳米硅线用在充电锂电池负材料里，或者在纳米硅粉表面包覆石墨用做充电锂电池负材料，可提高锂电池的电容量和充放电循环次数；纳米硅粉用在耐高温涂层和耐火材料里。纳米硅粉与金刚石高压下混合形成碳化硅一金刚石复合材料，用做切削刀具等。随着硅粉向纳米尺度转变时，由于尺寸效应，将赋予硅材料新的特性。生产纳米硅粉的方法主要有I.化学气相沉积法·硅烷在热、微波、激光、等离子体等外界能量的作用下，在高氢稀释的条件下分解为硅和氢，在气相环境下快速冷凝，从而制备出纳米硅粉。2.研磨利用机械旋转及粒子之间的相互作用产生的巨大摩擦力将尺寸较大的硅材料研磨成纳米尺寸的粉末。研磨法的杂质含量高，粒径分布不能有效控制，后处理比较繁琐。
IKN高剪切研磨机生产的硅粉纯度高、粒径分布均匀，分散性好，活性高。生成的纳米硅粉为淡黄色粉末或黄褐色，颜色随粒径的增大而加深。
纳米硅粉高剪切研磨分散机，光伏材料用硅粉纳米胶体磨，硅粉管线式湿法胶体磨
纳米硅粉高剪切研磨分散机工作原理：胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。
纳米硅粉高剪切研磨机适用于浆料的一次性通过完成生产加工的工艺要求，特殊的多层的定、转子结构具有超细分散和破碎性能，当物料从设备进口被自动吸入工作腔后，经过多个剪切面，产生了成百上千次强烈地剪切、撞击、研磨和空穴等综合作用，使物料达到充分的分散、破碎和细化的效果。与传统分散设备相比具有结构简单、分散细化加工快速完成，且、能耗低、易维护等优点。
纳米硅粉高剪切研磨机 三错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
CMS2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
三错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款高速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。
| 高速分散机 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| CMS 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
| CMS 2000/5 | 4,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
| CMS 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
| CMS 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
| CMS 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
| CMS 2000/50 | 100,000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。
3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。
5 本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
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纳米硅粉高剪切研磨分散机，光伏材料用硅粉纳米胶体磨，硅粉管线式湿法胶体磨
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