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碳纳米管NMP浆料分散设备，碳纳米管NMP浆料高剪切研磨式分散机
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品牌名称：$brandModel.Title型号： 原产地：中国大陆 更新时间：2026/11/9 9:03:47
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详细内容
碳纳米管NMP浆料分散设备，碳纳米管NMP浆料高剪切研磨式分散机，水性碳纳米管浆料研磨式分散机
IKN碳纳米管NMP浆料分散机应对碳纳米管NMP浆料，机械密封采用合金环，设备所有密封圈采用全氟橡胶；另外IKN研磨分散机更模块都带有夹套可进行温度控制，便于各种工艺的要求。
碳纳米管，又名巴基管，是一种具有特殊结构（径向尺寸为纳米量，轴向尺寸为微米量，管子两端基本上都封口）的一维量子材料。碳纳米管主要由呈六边形排列的碳原子构成数层到数十层的同轴圆管。层与层之间保持固定的距离，约0.34nm，直径一般为2~20 nm。并且根据碳六边形沿轴向的不同取向可以将其分成锯齿形、扶手椅型和螺旋型三种。其中螺旋型的碳纳米管具有手性，而锯齿形和扶手椅型碳纳米管没有手性。
碳纳米管分散技术三要素
碳纳米管分散技术三要素：分散介质、分散剂和分散设备
1、分散介质
（1）根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中，如水和有机溶剂，碳纳米管易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等，高粘度介质如熔融态的塑料。
（2）此处介绍的碳纳米管分散技术，针对中、低粘度分散介质。
2、分散剂
（1）分散剂的选择，与分散介质的结构、性、溶度参数等密切相关。
（2）分散剂的用量，与碳纳米管比表面积和共价键修饰的功能基团有关。
（3）水性介质中，推荐使用TNWDIS。强性有机溶剂中，如醇、DMF、NMP， 推荐使用TNADIS。中等性有机溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶，推荐使用TNEDIS 。
3、分散设备
（1）超声波分散设备：非常适合实验室规模、低粘度介质分散碳纳米管，用于中、高粘度介质时会受到限制。
（2）研磨分散设备：适合大规模地分散碳纳米管、中粘度介质分散碳纳米管。
（3）采用“先研磨分散、后超声波分散”组合方法，可以高效、稳定地分散碳纳米管分散剂用量推荐。
碳纳米管分散难点
碳纳米管分散，其实也就是所谓的纳米物料的分散，在做纳米粉体分散或研磨时，因为粉体尺度由大变小的过程中，范德华力及布朗运动现象逐渐明显且重要。选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及选择适当的研磨机来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响，是湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米粉体研磨及分散关键技术。
IKN碳纳米管NMP浆料分散机特点
1、研磨分散机的结构为：第1组模块为胶体磨头定转子，第2组模块为分散盘定转子；有利于碳纳米管浆料的分散，先研磨后分散，避免物料的团聚。
2、研磨分散机转速可达14000rpm，线速度为44m/s，定转子间隙为0.2-0.3mm，属于超精细分散，高速剪切速率，分散后的碳纳米管浆料更加均匀稳定。
3、IKN研磨分散机应对碳纳米管NMP浆料，机械密封采用合金环，设备所有密封圈采用全氟橡胶；另外IKN研磨分散机更模块都带有夹套可进行温度控制，便于各种工艺的要求。
CMSD2000系列研磨式分散机参数选型表
| 研磨式分散机 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
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流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
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