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超细粉体材料研磨式分散机,超细粉体解团聚高剪切分散机
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详细内容
超细粉体,是指粒径在微米到纳米的一系列超细材料。按照我国矿物加工行业的共识,将超细粉体定义为粒径100%小于30μm的粉体。由于纳米材料具有许多传统材料不具备的小尺寸效应、宏观量子隧道效应、表面效应等特殊性能而被广泛应用。
但纳米材料具有较大的比表面积,活性很高,不稳定,其容易发生团聚而失去原有的性质,降低了材料的价值,对纳米材料的制备、储存造成了一定的难度,因此,纳米材料的团聚问题是限制纳米材料发展的关键技术问题。
超细粉体的团聚
超细粉体的团聚是指原生的粉体颗粒在制备、分离、处理及存放过程中相互连接形成的由多个颗粒形成较大的颗粒团簇的现象。目认为超细粉体产生团聚的原因主要有三点:分子间作用力引起超细粉体团聚;颗粒间静电作用力引起团聚;颗粒在空气中的粘结。
1.分子间作用力引起超细粉体团聚
当矿物材料超细化到一定程度以下时,颗粒之间的距离短,颗粒之间的范德华力远大于颗粒自身的重力。因此,这种超细颗粒往往互相吸引团聚。超细粒子表面的氢键、吸附湿桥及其他化学键作用,也易导致粒子之间互相黏附聚集。
2.颗粒间静电作用力引起团聚
矿物材料在超细过程中,由于冲击、摩擦及粒径的减小,在新生超细粒子的表面积累了大量的正电荷或负电荷。这些颗粒的表面凸起处有的带正电荷,有的带负电荷,这些带电粒子不稳定,为了趋于稳定,它们互相吸引,尖角处互相接触连接,使颗粒产生团聚,此过程的主要作用力是静电力。
3.颗粒在空气中的粘结
当空气的相对湿度超过65%时,水蒸气开始在颗粒表面及颗粒间凝集,颗粒间因形成液桥而大大增强了团聚作用。
另外,矿物材料在粉碎过程中,吸收了大量的机械能或热能,因而使新生的超细颗粒表面具有相当高的表面能,粒子处于不稳定状态。粒子为了降低表面能,往往通过相互聚集靠拢而达到稳定状态,也容易引起粒子团聚。
纳米材料的团聚分为软团聚、硬团聚两种。软团聚是由分子间作用、范德华力引起的,比较容易去除,而关于硬团聚的形成原因目有毛细管吸附理论、氢键理论、晶桥理论、化学键作用理论、表面原子扩散键合机理五种观点,但是到目为止,还没有统一的解释。
但是当对超细粉体的防止团聚的分散技术已有大量研究。
超细粉体的分散
在液相的分散方法
1.机械分散法
机械分散法是借助外界剪切力或撞击力等机械能,使纳米粒子在介质中充分分散的一种方法。机械分散法有研磨、普通球磨、振动球磨、胶体磨、空气磨、机械搅拌等。
机械搅拌的主要问题是:一旦颗粒离开机械搅拌产生的湍流场,外部环境复原,它们又有可能重新形成聚团。因此,用机械搅拌加化学分散剂的双重作用往往可获得更好的分散效果。
2.化学分散法
化学分散是工业生产广泛应用的一种超细粉体悬浮液体的分散方法。通过在超细粉体悬浮液中添加无机电解质、表面活性剂及高分子分散剂使其在粉体表面吸附,改变粉体表面的性质,从而改变粉体与液相介质以及粒间的相互作用,实现体系的分散。
分散剂包括表面活性剂、小分子无机电解质、聚合物分散剂与偶联剂。其中聚合物分散剂应用为广泛,聚电解质又为重要。
高速研磨分散机, 线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形,具有精细度递升的三组锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力(可有泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,通过高速研磨分散机定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优质材料,可以满足不同行业的多种需求。
影响研磨分散结果的因素有以下几点:
1 研磨和分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 研磨和分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨分散腔体的停留时间,研磨均质时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
CMSD2000系列研磨分散机参数选型表
| 研磨分散机 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%
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