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球形二氧化硅浆料研磨机，球形二氧化硅浆料研磨分散机
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品牌名称：$brandModel.Title型号： 原产地：中国大陆 更新时间：2026/11/9 9:03:47
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详细内容
球形二氧化硅浆料研磨机，球形二氧化硅浆料研磨分散机，球形二氧化硅高剪切分散机，球形二氧化硅管线式分散机，球形二氧化硅浆料研磨分散设备
球形二氧化硅，是指颗粒个体呈球形，主要成分为二氧化硅的无定形石英粉体材料。球形二氧化硅主要用于集成电路封装，在航空、航天、精细化工、可擦写光盘、大面积电子基板、特种陶瓷及日用化妆品等高新技术域中也有应用。 随着我国电子信息产业的快速发展， 手机、个人电脑等越来越多的电子信息产品的产开始进入列，带动了我国集成电路市场规模的不断扩大。石英粉由于其具有高介电、耐热耐湿耐腐蚀、高填充量、低膨胀、低应力、低杂质、低摩擦系数等优越性能，在大规模、超大规模集成电路的基板和封装材料中成为不可缺少的优质材料。
对于研磨分散机而言，在很多场合下处理高粘度、大颗粒物料，所以一般选择比较大的功率电机，转速是国内普通研磨设备的3-5倍，研磨的力度也是他们的3-5倍，这样研磨的细度更小，研磨分散机是CM与ERS的结合体，倾向于各系列物料的研磨、分散、均质、乳化)。分两组模块结构，一组为CM模块的研磨结构，另一组为ERS模块的分散、乳化、均质结构，且研磨粒径比胶体磨更细，分散效果比ERS更佳。
影响研磨分散机效果的因素有哪些:
1、研磨分散头的形式（卧式和立式）；
2、研磨分散头剪切速率；
3、研磨分散头的齿形结构（齿形越细效果越好）；
4、研磨分散头物料在研磨分散腔体的停留时间，研磨分散时间（时间越长越好）；
5、循环次数（循环次数越多越好）。
研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，研磨速率取决于以下因素：
– 磨头的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
CMSD2000系列研磨分散机参数选型表
| 研磨分散机 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
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