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纳米二氧化硅高速分散机，改性纳米二氧化硅溶液浆料高速高剪切分散机，二氧化硅分散液均质分散机,超细粉高速分散机
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品牌名称：$brandModel.Title型号： 原产地：中国大陆 更新时间：2026/10/22 9:41:48
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详细内容
纳米二氧化硅高速分散机，改性纳米二氧化硅溶液浆料高速高剪切分散机，二氧化硅分散液均质分散机,超细粉高速分散机
分散三个阶段：
1、超细颗粒在液体中的润湿；
2、团聚体在机械力作用下被打开形成独立的原生粒子或较小的团聚体；
3、将原生粒子或较小团聚体稳定化，阻止再次团聚。
从某种意义上讲，纳米粉体的分散处理是纳米粉体技术中关键的技术，也是纳米材料应用中必须解决的重要环节。
影响纳米材料分散要素：
1、分散介质
（1）根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中，如水和有机溶剂，纳米材料易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等，高粘度介质如熔融态的塑料。
2、分散剂
（1）分散剂的选择，与分散介质的结构、性、溶度参数等密切相关。
（2）分散剂的用量，与纳米材料比表面积和共价键修饰的功能基团有关。
（3）水性介质中，推荐使用TNWDIS。强性有机溶剂中，如醇、DMF、NMP，推荐使用TNADIS。
3、分散设备
上海依肯机械设备有限公司门应对纳米材料研磨分散开发的高速高剪切研磨分散机CMSD2000系列适合大规模地分散纳米气相二氧化硅（白炭黑），纳米氧化锌，纳米氧化钴，纳米氧化铁，纳米氧化铋，纳料ATO合金等产品。纳米金属粉体、碳纳米管、高纯Al2O3、高纯纳米TiO2系列粉体、超活性纳米TiO2催化剂、纳米TiO2液体、纳米TiO2银抗菌剂、纳米高纯ZrO2、超细高纯ZrO2、纳米涂层材料、纳米载银抗菌粉、纳米SiO2、纳米ZnO、光触媒、纳米三防整理剂等系列粉体、液体、制剂在中、低粘度介质里的分散。
高速研磨分散机工作原理：高速研磨分散机，线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形，具有精细度递升的三组锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力（可有泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，通过高速研磨分散机定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。
从设备角度分析，影响分散结果的因素有以下几点：
1、研磨分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）
2、研磨分散头的剪切速率（越大，效果越好）
3、研磨分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4、物料在研磨分散腔体的停留时间，研磨分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5、循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
设备的选型要点：
1、明确使用设备所需达到的效果和目的
2、详细了解并掌握研究物料的性质（包括物理、化学性质）
3、根据物料对设备的搅拌机进行选型
4、再次确定设备的操作参数及结构设计
5、综合考虑设备的成本
CMSD2000系列研磨分散设备适用工艺：
精细化工：颜料、燃料、涂料、油漆、塑料、树脂、油墨、糊料、浆料、热熔胶、阻燃剂、胶黏剂、整理剂、表面活性剂、均染剂、防粘剂、消泡剂、亮光剂、橡胶助剂、塑料助剂、燃料助剂、絮凝剂、混凝剂、表面活性剂、溶剂、硅油乳化、树脂乳化、炭黑分散、白炭黑
石油化工：润滑油、重油混合、重油乳化、油包水、包油水、柴油乳化、改性沥青、乳化沥青、催化剂、蜡乳化
农药化肥：化肥、农药乳化、农药助剂、农药中间体、药乳油、杀虫剂、除草剂、种衣剂、杀菌剂、植物激素、尿素、复合肥、乳油、湿性粉剂
生物医药：细胞浆化、血清疫苗、蛋白质分散剂、药乳膏、抗生素、糖衣、各型糖浆、营养液、中成药、膏状药剂、生物制品、鱼肝油、花粉、蜂皇浆、疫苗、各种药膏、各种口服液、针剂、静滴液等
日用化工：护肤霜、护肤膏、洗涤剂、防腐剂、美发用品、牙膏、日用香精、洗发精、鞋油、化妆品、沐浴精、肥皂、香脂等
食品工业：食品添加剂、香精、香料、果汁、果酱、冰淇淋、乳制品、巧克力、芦荟、菠萝、芝麻、月饼馅、奶油、果汁、大豆、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、豆奶、乳制品、麦乳精、番茄酱、花生酱、果冻、布丁、功能饮料、啤酒、鸡精、调味品等
CMSD2000系列分散机参数选型表
| 研磨分散机 | 流量 | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%纳米二氧化硅高速分散机，改性纳米二氧化硅溶液浆料高速高剪切分散机，二氧化硅分散液均质分散机,超细粉高速分散机
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