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上海依肯机械设备有限公司 主营产品:纳米乳化机/纳米分散机/纳米均质机/纳米胶体磨/纳米研磨机/湿法粉碎机/纳米锥体磨/高剪切研磨分散机/粉液混合机/固液混合机/真空乳化均质机/实验室匀浆机

第5年

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二氧化钛超高速研磨分散机

价格:¥ 电议

品牌名称:$brandModel.Title型号: 原产地:中国大陆 更新时间:2026/11/9 9:03:47

产品摘要:二氧化钛超高速研磨分散机,二氧化钛纳米胶体磨,二氧化钛分散研磨均质设备,纳米二氧化钛高速分散机 ...更多详情请致电上海依肯 徐工 182-0189-1183,公司有样机可以免费实验测试。

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高速高剪切乳化机

高速高剪切分散机

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高速研磨分散机

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公司网站:http://www.iknchina.com

详细内容

二氧化钛超高速研磨分散机,二氧化钛纳米胶体磨,二氧化钛分散研磨均质设备,纳米二氧化钛高速分散机


二氧化钛适用十分广泛,如油漆、防晒霜和药片包衣。通常市场上都提供不同别的粉末产品,但是实际使用时还会对细度提出新的要求。同时,这类粉体碰到液体时易团聚,这就成为了二氧化钛的分散的一个难点。IKN系列混合分散设备为快速分散而设计,达到窄粒径分布,并防止结块。
二氧化钛超高速研磨分散机,二氧化钛纳米胶体磨,二氧化钛分散研磨均质设备,纳米二氧化钛高速分散机用于二氧化钛分散和研磨的优点:
一、缩短工艺时间。IKN高剪切乳化分散设备可以迅速地混合分散二氧化钛粉末,并消除结块和团聚。IKN也提供PLD和PLG粉体/液体混合机,将粉体直接加入液体,无需循环处理,一次性通过便可成型。
二
、提高品质。IKN高剪切混合机可以打碎结块粉体,并与液体充分混合。这样可以改善产品光泽和透明度,这两个特征由分散好坏直接决定。
三、减少资金投入。IKN磨机可以更大程度缩小粒径,达到窄粒径分布。IKN分散研磨设备的流量比同类研磨设备高出很多,但也可达到相类似的效果。模块化设计的IKN 2000系列产品,可以帮助客户节约资金投资。
二氧化钛超高速研磨分散机,二氧化钛纳米胶体磨,二氧化钛分散研磨均质设备,纳米二氧化钛高速分散机 是IKN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三组高剪切均质乳化机进行改装,我们将三组变跟为一组,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

IKN研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品,先是由具有精细度递升的三组锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。
CMD2000系列二氧化钛研磨分散机的特点:
① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨;
② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽;
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离;
④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向;
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。
CMD2000系列研磨分散设备选型表
研磨分散机 流量L/H 输出转速rpm 线速度m/s 马达功率kw 出口/入口连接
CMD2000/04 300 9,000 23 2.2 DN25/DN15
CMD2000/05 1,000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
CMD2000/10 3,000 4,200 23 22 DN80/DN50
CMD2000/20 8,000 2,850 23 37 DN80/DN65
CMD2000/30 20,000 1,420 23 55 DN150/DN125
CMD2000/50 60,000 1,100 23 110 DN200/DN150
*流量取决去设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%。
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