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奥卡西平口服混悬液高速胶体磨,医药口服混悬液纳米胶体磨,混悬液高速改进型胶体磨
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奥卡西平口服混悬液高速胶体磨,医药口服混悬液纳米胶体磨,混悬液高速改进型胶体磨
奥卡西平的低溶解性的理化性质,在奥卡西平药物组合物的制备过程中,奥卡西平原料药的粒径选择,对于药物组合物或者施用剂型具有重要影响,也会明显影响到奥卡西平不同剂型的生物利用度,因此,奥卡西平原料药粒径对奥卡西平口服混悬液剂型体外释放率的影响很大。
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影响胶体磨研磨分散结果的因素有以下几点:
1 研磨和分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 研磨和分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
CMSD2000系列高速胶体磨参数选型表
| 型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%
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