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上海依肯机械设备有限公司 主营产品:纳米乳化机/纳米分散机/纳米均质机/纳米胶体磨/纳米研磨机/湿法粉碎机/纳米锥体磨/高剪切研磨分散机/粉液混合机/固液混合机/真空乳化均质机/实验室匀浆机

第5年

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润滑脂改进型胶体磨,润滑脂均质型胶体磨,高低稠度润滑脂高速均质乳化型胶体磨

价格:¥ 电议

品牌名称:$brandModel.Title型号: 原产地:中国大陆 更新时间:2026/10/22 9:41:48

产品摘要:润滑脂改进型胶体磨,润滑脂均质型胶体磨,高低稠度润滑脂高速均质乳化型胶体磨 ...更多详情请致电上海依肯 徐工 182-0189-1183,公司有样机可以免费进行测试。

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高速高剪切乳化机

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详细内容

润滑脂改进型胶体磨,润滑脂均质型胶体磨,高低稠度润滑脂高速均质乳化型胶体磨
国内润滑脂厂家在生产润滑脂时,所用到的均质设备使用多的基本都是高压均质机、三辊研磨机, 而普通的胶体磨在其它行业应用很多,但在润滑脂行业只是少量使用,且局限于低稠度润滑脂的间隙生产,无法使用在批量连续生产;而且使用这几种设备均质后润滑脂的稳定性也并不是很理想。
上海依肯IKN改进型胶体磨可用于润滑脂生产后处理的胶体磨装置,可用于管道安装连续生产,且具有输送功能,可适用于高低稠度润滑脂的生产,而且均质后的润滑脂稳定性比其它设备均质后有较明显提高。
上海依肯凭借多年来积累的丰富行业经验结合优良技术研发平台特别推出CMSD2000系列改进型胶体磨是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品,先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优良的材料,可以满足不同行业的多种需求。通过改进型胶体磨定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎、分散、乳化的效果。




润滑脂改进型胶体磨,润滑脂均质型胶体磨,高低稠度润滑脂高速均质乳化型胶体磨

影响胶体磨研磨分散结果的因素有以下几点

1 研磨和分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2 研磨和分散头的剪切速率 (越大,效果越好)

3 研磨和分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4 物料在研磨分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60

CMSD2000系列改进型胶体磨参数选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150


表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%

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