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共研磨法制备壳聚糖衍生物与PVA共混物湿法研磨分散机、高分子聚合物湿法研磨分散机
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品牌名称：$brandModel.Title型号： 原产地：中国大陆 更新时间：2026/11/9 9:03:47
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详细内容
共研磨法制备壳聚糖衍生物与PVA共混物湿法研磨分散机、高分子聚合物湿法研磨分散机，一种制备壳聚糖衍生物与PVA共混物研磨分散工艺技术方案
壳聚糖(chitosan，CS)及其衍生物具有良好的成膜性、是一种工业上广泛使用的成膜材料，其具有生物相容性好、止血、抗菌等一系列优点。但单一的壳聚糖膜存在耐酸与耐水性差、质脆机械性能差等缺点，在很大程度上限制了壳聚糖的使用。聚乙烯醇(polyvinyl alcohol,PVA)是一种高分子聚合物，其成膜性较强，所制得的膜机械强度与韧性较高，具有非常好的生物相容性，被广泛用于医药与人工材料域。大量研究表明，聚乙烯醇与壳聚糖衍生物按一定比例共混，可以有效提高壳聚糖的耐水性与机械性能，其反应机理为聚乙烯醇与壳聚糖衍生物共混生成氢键，因此大改善了共混膜的断裂伸长率、弹性模量等机械性能与韧性。采用壳聚糖衍生物与聚乙烯醇共混技术可制成共混膜、水凝胶或共混纤维等材料，在医药、食品、化工、环保材料等域都有着广泛的应用，如包装材料、伤口敷料、有机染料及金属离子滤除等。
目，主流的聚乙烯醇与壳聚糖衍生物共混技术缺点是制备时间长，制备过程中需要加热，人工与能源消耗都较大，并且在制备过程中常需加入交联剂，易导致产品有机溶剂残留，尤其不适合医药类产品的生产。湿法共研磨技术是新一代粉碎技术，该技术具有简便易行、成本低廉、无毒无害及增溶效果明显等特点，尤其适合工业化大生产。其在矿业、化工与制药域均有广泛的应用。在药学域共研磨主要应用于难溶性药物的增溶，其增溶原理与改变药物晶型及促进药物及辅料间形成氢键有关。
所述的湿法共研磨技术能够促使溶液中的PVA和壳聚糖衍生物在室温条件下5-30min内快速形成氢键。共研磨作用通过破坏聚合物分子内已有的稳定结构，加速分子运动，进而诱导聚合物分子间的相互作用，其作用效果与常规的加热、搅拌手段相当，并且避免了有机交联剂的添加，不仅工艺简单适应工业化生产，更符合绿色化学的要求。
所述的湿法共研磨工艺具体实施方法为：先将PVA分散至溶剂中，研磨使PVA溶解后，然后加入壳聚糖衍生物研磨溶解后，再共研磨5-30min即可。
上海依肯凭借多年来积累的丰富行业经验结合优良技术研发平台特别推出CMSD2000系列高速改进研磨分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优良的材料，可以满足不同行业的多种需求。通过研磨分散机磨定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎、分散、乳化的效果。
影响研磨分散结果的因素有以下几点
1 研磨和分散头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）
2 研磨和分散头的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨和分散头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4 物料在研磨分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
CMSD2000系列湿法研磨分散机参数选型表
|
型号
|
流量
L/H
|
转速
rpm
|
线速度
m/s
|
功率
kw
|
入/出口连接
DN
| ||
|
CMSD 2000/4
|
300
|
14000
|
41
|
4
|
DN25/DN15
| ||
|
CMSD 2000/5
|
1000
|
10500
|
41
|
11
|
DN40/DN32
| ||
|
CMSD 2000/10
|
4000
|
7200
|
41
|
22
|
DN80/DN65
| ||
|
CMSD 2000/20
|
10000
|
4900
|
41
|
45
|
DN80/DN65
| ||
|
CMSD 2000/30
|
20000
|
2850
|
41
|
90
|
DN150/DN125
| ||
|
CMSD 2000/50
|
60000
|
1100
|
41
|
160
|
DN200/DN150
|
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
共研磨法制备壳聚糖衍生物与PVA共混物湿法研磨分散机、高分子聚合物湿法研磨分散机，一种制备壳聚糖衍生物与PVA共混物研磨分散工艺技术方案
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