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医药中间体高速研磨分散乳化机，软膏膏剂乳化研磨分散机，高黏稠药膏均质机
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品牌名称：$brandModel.Title型号： 原产地：中国大陆 更新时间：2026/10/22 9:41:48
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详细内容
乳化机就是通过与发动机连接的均质头的高速旋转，对物料进行剪切，分散，撞击，这样物料就会变得更加细腻，促使油水相融，广泛应用于化妆品，沐浴露，防晒霜，等很多膏霜类的产品都要用到乳化机，食品行业中的酱，果汁等，制药行业中的软膏，石油化工，油漆涂料油墨等都会用到乳化机。目制药行业中需要用的也是比较多的，需要把药品制作成药膏，但是目大多数的乳化机都是直接把粉末状的药品直接进行乳化，这样使药品在进行乳化的时候药品的乳化不均匀，达到的乳化效果也不是很好，从而影响药膏的效果。
针对现有技术的不足，上海依肯新推出一种医药中间体高速研磨分散乳化机，上海依肯CMSD2000系列湿法研磨机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优良的材料，可以满足不同行业的多种需求。通过湿法研磨机定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果，出料粒径可以微纳米。
这样使药品粉末进行乳化，这样乳化的更加均匀提高了乳化的效果等优点，这样可以提高药品的乳化效果，使研磨与乳化同时进行，使药品乳化的更加的均匀，提高药膏的使用效果。解决了在进行药品乳化先将研磨好的粉末状药品一次性投入到乳化桶内进行乳化，这样乳化的效果不是很好的问题。
医药中间体高速研磨分散乳化机，软膏膏剂乳化研磨分散机，高黏稠药膏均质机，乳化机，胶体磨
影响研磨均质分散乳化结果的因素有以下几点
1 研磨和分散乳化头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）
2 研磨和分散乳化头的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨和分散乳化头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
CMSD2000系列医药中间体高速研磨分散乳化机选型表
| 型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
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