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碳化硅微粉湿法研磨分散机
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品牌名称：$brandModel.Title型号： 原产地：中国大陆 更新时间：2026/11/9 9:03:47
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详细内容
碳化硅精细陶瓷具有高硬度、高强度、高耐磨性、耐腐蚀、耐高温等特点，已逐渐应用到航空航天、机械、冶金、能源、环保、化工、医学、电子、军工等诸多技术域。碳化硅精细陶瓷的性能与碳化硅原料微粉的质量密切相关，通常要求微粉纯度高、粒度分布均匀、颗粒形状为近球形、不易团聚具有良好的流动性、烧结性能好。
现有的碳化硅微粉工业化生产流程主要包括冶炼、粉碎、提纯、精密分等一系列过程，对于碳化硅精细陶瓷用原料微粉需增加整形工序。在上述工艺过程中，虽然理论上可以实现不同粒径碳化硅微粉的分离，但实际上对于一些粒径相差非常大的粒子难以实现完全分离，如微米碳化硅微粉颗粒表面会粘附大量的纳米碳化硅颗粒（主要成分为SiO2与低纯度的SiC），而纳米碳化硅颗粒的存在会降低碳化硅微粉的纯度，影响微粉的流动性、分散性、堆积密度，而且会优先与烧结助剂反应，造成碳化硅微粉的成型性能与烧结性能变差，进而导致终碳化硅精细陶瓷制品性能下降。
碳化硅微粉湿法研磨分散机CMSD2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。物料通过研磨分散机定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果，粉体粒径可至微纳米。
整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。
湿法研磨分散机湿磨是干磨的一种安全而高效的替代方案，基于转子-定子原理。
用转子-定子置湿磨此类物质具有诸多好处：
1、 研磨得到的细颗粒被直接融合到悬浮液中，因而从开始就避免了灰尘的形成；
2 、与干磨系统不同，被研磨的物质保持在系统内，从而大幅减少了损失。因此，湿磨非常适合有机化学品，尤其是优质物质，或者有毒物质的研磨；
3、相对干磨过程而言，湿磨的产品进料和计量较容易。
CMSD2000系列碳化硅微粉湿法研磨分散机选型表
| 型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
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