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多肽类药物提取制药用胶体磨，一种多肽提取用匀浆破壁胶体磨，IKN改进型研磨破碎胶体磨，可循环可在线管线式微纳米胶体磨
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品牌名称：$brandModel.Title型号： 原产地：中国大陆 更新时间：2026/11/9 9:03:47
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多肽类药物提取制药用胶体磨，一种多肽提取用匀浆破壁胶体磨，IKN改进型研磨破碎胶体磨，可循环可在线管线式微纳米胶体磨，细胞匀浆破壁胶体磨，温度可控的GMP胶体磨
小分子多肽类活性物质提取用胶体磨是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三机高剪切均质乳化机进行改装，我们将三变更为一，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）。
上海IKN技术，独特创意，融化理念。将IKN高剪切胶体磨进行进一步的改良，在原来CM2000系列的基础上，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两模块，加入了一分散盘（均质盘、乳化盘）。从而形成改良型的胶体磨，先研磨后分散（均质、乳化），将物料的处理一步到底的完成，我们将这种改良的胶体磨也称为“研磨分散机”、“研磨均质机”、“研磨乳化机”。表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
多肽类药物提取制药用胶体磨，一种多肽提取用匀浆破壁胶体磨，IKN改进型研磨破碎胶体磨，可循环可在线管线式微纳米胶体磨，细胞匀浆破壁胶体磨，温度可控的GMP胶体磨
IKN改进型研磨破碎胶体磨设备结构：
第1机由具有精细度递升的三机锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为 在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是相对应转子齿的排列，还有一个很重要的区别是 不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选用工作头来满 足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
IKN改进型研磨破碎胶体磨设备特点：
1、耐有机溶剂、耐腐蚀；
2、材质为316L不锈钢；
3、设备定转子（研磨分散工作腔体）间间隙可调，粒度可控；
4、设备整体机身夹套设计，高转速产生的热量可以通过外接冷却设备进行控温；
5、主轴与电机分体设计，用户可根据需要选择适当的转速；
6、设备为变频调速，可通过变频控制柜合理准确的调节设备转速；
7、可灵活设计生产过程中的特殊需求（设备表面光洁度、真空、防爆、设备材质）；
8、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，大程度降低了风险
IKN改进型研磨破碎胶体磨设备的技术参数：
| 研磨胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
| CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
| CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
| CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
| CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
| CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。
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