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改进行医药悬浮液胶体磨，IKN总工程师推荐医药公司都在用的混悬液胶体磨，高效节能混悬液研磨分散设备，混悬液超微粉碎设备
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改进行医药悬浮液胶体磨，IKN总工程师推荐医药公司都在用的混悬液胶体磨，高效节能混悬液研磨分散设备，混悬液超微粉碎设备
悬浮液工艺要点在于使用的胶体磨的研磨性能，普通胶体磨转速3000rpm，研磨出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，上海依肯高剪切胶体磨CM2000系列转速高达9000rpm，是特别为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。
CM2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。 经过CM2000胶体磨研磨后的混悬液固体颗粒粒径D90小于10UM，分布范围窄。
更多详情请致电上海依肯 销售工程师 徐工 182-0189-1183，公司有样机可以免费进行实验测试。
IKN胶体磨与国内胶体磨的性能比较
一、转速和剪切速率：
IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转
F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440 S-1
通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于者是后者的2-3倍
二、胶体磨头和间距：
IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三机乳化模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块。
间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工
国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差
三、机械密封：
IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至低点，可24小时不停运转
国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁
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