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石墨烯纳米硅复合材料高速分散机
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品牌名称：$brandModel.Title型号：CMD2000 原产地：中国大陆 更新时间：2026/10/22 9:41:39
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详细内容
石墨烯纳米硅复合材料高速分散机，锂离子电池浆料高速分散机，二氧化硅石墨烯高速分散机，高速纳米硅石墨烯浆料分散机，管线式高速硅碳材料分散机
高性能二次电池是目各种便携式储能设备的核心技术，其中锂离子电池以其重量轻、体积小、自放电小、能量密度高、输出功率大、循环性能优越，工作温度范围宽，放电区平稳，体积利用率高等优势正逐步应用于多种域。石墨烯作为新兴碳材料，以其较大的电子迁移率，优异的机械强度，世上电阻率小，稳定性好备受青睐。但由于石墨烯片层之间强烈的吸引力，导致固态的石墨烯由于聚集而失去了单分散石墨烯具有的高比表面积等优异性能，为此三维石墨烯的制备显得更加有必要。二氧化硅以其广泛的来源、较高的导热系数、良好的介电性能，较大的比表面积，成为可替代产品之一。但单纯的二氧化硅材料在锂离子的脱嵌过程中，体积效应产生的较大应力，易导致循环过程中活性物质的粉化、脱落以及晶格的塌陷，使其循环性能大受影响，为此，通过二氧化硅材料纳米化、与新兴碳材料复合可很好地解决上述问题。
对电池浆料的要求，第yi是分散均匀性，如果浆料分散不均，有严重的团聚现象，电池的电化学性能受到影响，如若导电剂分布不均匀，电在充放电过程中，各处电导率不同会发生不同的电化学反应纳米物料分散到流体物质当中容易形成二团聚体，导致物料粒径变大，难以分散。从而使终的乳化液体系不稳定，容易沉降分层。面对这种情况，IKN研发出新型设备的纳米研磨分散机，应对纳米物质的分散问题。
石墨烯纳米硅复合材料高速分散机是一款胶体磨和分散机一体化的设备，先研磨后分散，先将化工原料混合成流体状浆料的团聚体先打开，然后再进行分散。IKN研磨分散机在国内多家大型化工厂家以及多家化工研究所，化工企业都有着突出的应用。在纳米分散机运作的过程中，转轴以及转轴上各个零部件都是处于高速运转的状态，研磨定转子部分会带动研磨介质与物料产生强烈的碰擦与撞击，以起到磨细物料和分散聚体的作用。同时，物料经过研磨后，通过泵叶的巨大吸力，使其被吸出研磨篮，然后再由分散盘对其进行分散处理，这样就可以在很短的时间内获得理想的研磨效果。
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IKN研磨分散剂设备内部结构展示：
第yi由具有经细度递升的三锯齿突起和凹槽，定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离，在增强的流体湍流下，凹槽在每都可以改变方向。这样的设计可以保障物料初始颗粒较大时，可以顺畅进入研磨分散机腔体，通过高速旋转的经细度递升磨头，终得到微纳米的物料颗粒。
第2由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子、转子和批次式机器的工作头设计的不同主要在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗经度、中等经度、细经度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以的经验选取相应的工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。
| 高速胶体磨 | 流量* | 输出 | 线速度 | 功率 | 入口/出口连接 |
| 类型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
| CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
| CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
| CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
| CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
| CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
| *流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。 | |||||
1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。
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