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上海依肯机械设备有限公司 主营产品:纳米乳化机/纳米分散机/纳米均质机/纳米胶体磨/纳米研磨机/湿法粉碎机/纳米锥体磨/高剪切研磨分散机/粉液混合机/固液混合机/真空乳化均质机/实验室匀浆机

第5年

当前位置: 阿仪网 > 上海依肯机械设备有限公司 > 产品展示 > 高速湿法研磨机 > 高速研磨机 > 液体石蜡高速纳米胶体磨CMS2000

液体石蜡高速纳米胶体磨

价格:¥ 118900

品牌名称:$brandModel.Title型号:CMS2000 原产地:中国大陆 更新时间:2026/11/9 9:03:38

产品摘要:CMS2000高速胶体磨的工作原理:超高胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或成为转子)与相配的定齿(或成为定子)做相对的高速旋转,被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力(可有泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,通过胶体磨定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

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产品完善度: 访问次数:555

高速高剪切乳化机

高速高剪切分散机

高速高剪切均质机

实验室乳化均质粉碎设备

高速胶体磨

原料药湿磨机

高速粉液混合机

高速研磨分散机

高速湿法研磨机

高速湿法粉碎机

微球在线乳化机

高速沉析机

凝胶粉碎机

高速纳米乳化机

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手机网站:http://wap.app17.com/c56700/

公司网站:http://www.iknchina.com

详细内容

膏药高剪切高速胶体磨,液体石蜡高速纳米胶体磨,细胞破壁高速胶体磨
IKN胶体磨由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。
枸杞提取物的制备方法,采集枸杞的茎、叶和果实拣净,作原料;将上述原料装入超声提取罐中进行三次,将一次浓缩液、二次滤液、三次滤液混合并,浓缩至D=0.8?1.2,即得枸杞浸膏;浸膏装入中药浸膏喷雾干燥机,进风温度为180℃?195℃,出风温度为75℃?90℃,干燥得枸杞提取物干粉;枸杞提取物干粉与适合的载体混合均匀后即得枸杞提取物。可以用于饲料添加剂。本发明具有避免药物残留、安全无害的优势。在动物生产域具有清热解毒、补虚益精的功效;补充维生素提高坑病力,具有广谱性强及抗氧化的作用;补充氨基酸提高精肉率的营养价值。

为了达到巨大的能量输入,IKN采用提高定转子转速的方法。在电机固定三千转的提下,我们采用立式的结构通过皮带加速达到15000转。这很容易做到,但重要的是其它的部件能否能在高转速下保持稳定——轴承的强度够不够?机械密封会不会因为产生大量的热而损毁泄露?主轴会不会偏振的很厉害,定转子是否会发生摩擦?这些是IKN的关注点,也应该是广大客户在选型时应该重视的几个方面。

膏药高剪切高速胶体磨,液体石蜡高速纳米胶体磨,细胞破壁高速胶体磨与卧式胶体磨比较:

转速和剪切力:

国内胶体磨,3000/4700 RPM直联电机的转速决定转子转速

线速度:V=3.14X0.55X3000/60=9 M/SV=3.14X0.55X4700/60=14M/S

作用力:F=9/0.3X1000-=30000 S-1F=14/0.3X1000=42000 S-1

IKN高剪切胶体磨,9000/14000RPM通过皮带加速

线速度:V= 3.14X0.055X90000/60=26 M/SV=3.14X0.055X14000/60=44 M/S

作用力:F=23/0.2X1000=115000S-1F=40/0.2/X1000=200000S-1

这是研磨粉碎的重要因素,相当于后者是者的4-5倍

设备设计构造:

国内胶体磨,卧室直联结构,运行时间长,容易造成轴的偏心,运转不正常,需要业的人员拆开内部结构更换。而且需要更换损害的乳化头及轴

IKN高剪切胶体磨,立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。

密封:

国内胶体磨,填料密封或骨架密封,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁

IKN胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至,可24小时不停运转,特殊德国PDFE轴封,可以运行10000小时,可选择德国高品质机械密封,在一般的情况下,我们的机械密封可以承受16bar 压力,根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口压力可以达到12-13 bar .

产品效果:

国内胶体磨,粒径细度有限,10微米以下较困难,重复性差,产品粒径分布不均匀

IKN高剪切胶体磨,可实现0.1-1微米的颗粒加工,粒径分布均匀,纳米分散乳化粉碎

CMS2000系列细胞破壁胶体磨选型表:

高速胶体磨

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


CMS 2000/4

700

14000

40

4

DN25/DN15

CMS 2000/5

4,000

10,500

40

11

DN40/DN32

CMS 2000/10

10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

CMS 2000/20

30,000

4,900

40

45

DN80/DN65

CMS 2000/30

60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

CMS 2000/50

100,000

2,000

40

160

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。
5 本系列机型具有短程送料能力,无自吸功能,须选用高位进料;物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
膏药高剪切高速胶体磨,液体石蜡高速纳米胶体磨,细胞破壁高速胶体磨

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