IKN流体通用纳米研磨分散机CMD2000
价格：￥129800
品牌名称：$brandModel.Title型号：CMD2000原产地：中国大陆 更新时间：2026/10/14 13:31:09
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详细内容
IKN流体通用纳米研磨分散机，食品流体粉碎研磨分散机，医药行业混悬液注射剂等高剪切均质机，化工悬浊液纳米分散机，超高速流体粉碎分散机，直立式高剪切均质分散机
一种研磨分散机，包括电动机、研磨机和制冷器，所述制冷器连接研磨机、用于对研磨机提供循环制冷；研磨机包括壳体、主轴、定磨、转磨、定刀组件和转刀组件；壳体是中空的，其顶部设有进料口，其侧壁上设有出料口；定磨和定刀组件固定于壳体内侧壁上，定刀组位于定磨下方；出料口位于定刀组件下方；主轴位于壳体内侧中心位置，其轴体上端面位于进料口的正下方；转磨、转刀组件皆套接在主轴轴体上，转刀组件位于转磨下方；定磨位于转磨外侧；定刀组件与转刀组件咬合配合，电动机驱动主轴自转。本实用新型对进入的大颗粒物料进行初粉碎，实现了对大颗粒进料的高效超细粉碎。
从设备角度分析，影响浆料研磨分散效果的因素：
1 磨头的形式（卧式和立式）
2 磨头的剪切速率
3 磨头的齿形结构（见磨头结构）
4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间
5 循环次数
研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
由上可知，研磨速率取决于以下因素：
– 磨头的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
IKN流体通用纳米研磨分散机，食品流体粉碎研磨分散机，医药行业混悬液注射剂等高剪切均质机，化工悬浊液纳米分散机，超高速流体粉碎分散机，直立式高剪切均质分散机
流体通用纳米研磨分散机高效、快速、均匀地将一个相或多个相(液体、固体、气体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程。而在通常情 况下各个相是互不相溶的。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。由于转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能，使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用，形成悬浮液（固/液），乳液（液体/液体）从而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺和适量添加剂的共同作用下，瞬间均匀精细的分散乳化，经过高频的循环往复，终得到稳定的高品质产品。
IKN研磨分散机是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三高剪切均质分散机进行改装，我们将三变跟为一，然后在分散头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种分散头供客户选择）。
IKN研磨分散机特点：
1、胶体磨+分散机二合一设计：粉碎室设有三道磨碎区，一为粗磨碎区，二为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。
2、间隙可调，研磨缝隙调节可以改变适用于特定工艺
3、设备运转速度高达14000转，是国内普通分散机的4-5倍，高效细化分散研磨物料
4、机身腔体采用三层夹套设计可以冷却也可以加热
5、采用德国双端面机械密封，在保证有冷却水的情况下，可以24小时连续不间断工作
6、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验，无需重新调整实验数据，大程度降低了风险
IKN流体通用纳米研磨分散机，食品流体粉碎研磨分散机，医药行业混悬液注射剂等高剪切均质机，化工悬浊液纳米分散机，超高速流体粉碎分散机，直立式高剪切均质分散机
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