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上海依肯机械设备有限公司 主营产品:纳米乳化机/纳米分散机/纳米均质机/纳米胶体磨/纳米研磨机/湿法粉碎机/纳米锥体磨/高剪切研磨分散机/粉液混合机/固液混合机/真空乳化均质机/实验室匀浆机

第5年

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IKN超高速研磨剪切胶体磨CMXD

价格:¥176800

品牌名称:$brandModel.Title型号:CMXD原产地:中国大陆 更新时间:2026/10/14 13:31:09

产品摘要:CMXD改进型胶体磨分散机 湿法粉碎机 线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形,具有精细度递升的三锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种需求。

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产品完善度: 访问次数:594

高速高剪切乳化机

高速高剪切分散机

高速高剪切均质机

实验室乳化均质粉碎设备

高速胶体磨

原料药湿磨机

高速粉液混合机

高速研磨分散机

高速湿法研磨机

高速湿法粉碎机

微球在线乳化机

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高速纳米乳化机

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公司网站:http://www.iknchina.com

详细内容

IKN超高速研磨剪切胶体磨,德国胶体磨工作原理,纳米胶体磨性能特点,高转速胶体磨,线速度66m/s德国胶体磨

工作原理

流体或半流体物料通过高速相对连动的定齿与动齿之间,使物料受到强大的剪切力,磨擦力及高频振动等作用,有效地被粉碎,乳化,均质,混合,从而获得满意的精细加工的产品。

性能特点

超高速研磨剪切胶体磨为高精密机械,运转速度快,线速度高达66m/s,磨片间隙小,相对于压力式均质机,胶体磨先是一种离心式设备,它的优点是结构简单,设备保养维护方便,适用于较高粘度物料以及较大颗粒的物料。处理量大,适合工业化在线连续生产,可实现自动化控制,省时,高效,节约能耗,噪声低,运转平衡,消除批次间生产的品质差异。无死角,物料全部通过粉碎,乳化,均质,混合。

上海依肯机械设备主要研发,生产制造,销售流体域的几大系列:一高剪切分散乳化机,二 均质机,三 粉液分散机,四 胶体磨,五 搅拌机等系列。为混合、分散、均质、悬浮、乳化、湿磨、粉液混合等域提供高品质的解决方案,设备加工材料细度可达微纳米别。依肯公司作为国nei的zhu名供应商,凭借着对广大客户要求的深入了解,为客户解决流程工艺中的难题,混合技术,乳化均质,粉液混合技术和合理的配置方案,确bao设备运行稳定的可靠性。


从设备角度分析,影响研磨效果的因素:

1 磨头的形式(卧式和立式)

2 磨头的剪切速率

3 磨头的齿形结构(见磨头结构)

4 物料在磨头墙体的停留时间,乳化分散时间

5 循环次数

研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

由上可知,研磨速率取决于以下因素:

– 磨头的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 (相对而言)

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60

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IKN胶体磨与国内胶体磨的性能比较:

一、转速和剪切速率:

IKN胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转

F=23/0.7X1000=32857 S-1

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440 S-1

通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于者是后者的2-3倍

二、胶体磨头和间距:

IKN胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。

间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工

国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差

三、机械密封:

IKN胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至低,可24小时不停运转

国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁

四、清洗:

IKN胶体磨,立式,皮带驱动,易于维护,可有效保护马达及齿轮箱,防止损坏,符合流体流动原理,具有CIP/SIP在线清洗,在线杀菌功能,无需拆卸,机器设计无死角,立式结构符合流体原理,清洗更简便,国内胶体磨,卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,通常情况,需要拆卸机器进行清洗。

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