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IKN石墨烯改性硅基负材料研磨分散机CMSD2000
价格：￥129800
品牌名称：$brandModel.Title型号：CMSD2000原产地：中国大陆 更新时间：2026/10/14 13:31:09
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详细内容
已经广泛商业化的石墨负材料。这类材料的特点是，在充放电过程中，锂离子从材料主体脱出和嵌入，而材料基本结构不发生改变。因此，这类材料大多循环性能优异。在新型碳负方面，未来的发展将主要集中在高功率石墨类负及非石墨类高容量碳负，以满足未来动力和高能电池的需求。新型碳材料：如碳纳米管(CNT)石墨烯 理论上，硅与锂的插入化合物放电比容量可达到4200mAh/g,作为锂离子电池负材料非常有吸引力。然而硅在充放电过程中存在较大的体积变化，从而导致材料的容量衰减较快，电池的循环性能很差。所以需要对Si进行改性，提高硅基负材料的电化学性能，主要的改进方法一般采用表面处理、多相掺杂、形成硅化物等在硅基材料中，未来x有潜力的是硅基薄膜负和硅的复合材料，薄膜的厚度和材料的制备方法对硅基薄膜负的容量有着较大影响。只要增加薄膜的厚度就可提供足够的活性材料，
如何把纳米材料和微米材料均相分散是客户需要解决的问题？如何普通的分散机难以解决这个问题，需要行新工艺 ，新设备。硅碳复合材料难点在于：1、 颗粒细化，粒径分布范围集中 2、分散稳定。
石墨烯改性硅基负材料研磨分散机特点：
1、由于石墨烯的特性，石墨烯分散到液体介质当中，容易形成团聚。上海依肯研磨式分散机可以很好的解决这一问题，“胶体磨+分散机”的独特结构，一研磨模块可以将团聚体研磨打开，第二分散模块再瞬间对物料进行充分的分散，一步到位，效果好，效率高。
2、石墨烯是超细粉体，所以需要强大的作用对其进行分散，传统分散设备转速一般不足3000rpm，难以分散。而IKN研磨分散机转速高达21000rpm，剪切速率高，可以充分的将石墨烯分散到液体介质当中。
3、IKN研磨分散机采用管线式分体式结构，物料从进口进入设备工作腔中，进行处理，然后再从出口打出，物料可以得到充分剪切细化分散，产品更均匀稳定。另外可以实现在线式生产，满足大工业化生要求。
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上海依肯CMSD2000系列研磨分散机,可以很好的解决颗粒或粉体浆料易团聚、分散细化不均匀等问题，其已广泛应用于石墨烯、碳纳米管、活性炭、纳米粉体、高分子材料、石墨复合材料，碳纤维等多种新材料的制备应用上。CMSD2000系列的胶体磨（锥体磨）分散头的组合,可以先将物料（配入溶剂和分散剂）研磨细化,然后再经过分散头,进行分散。这样既可以细化又可以避免团聚的现象,为新材料行业提供了强有力的设备力量。
CMSD2000系列研磨分散机的结构：研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品：第yi由具有经细度递升的三锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。适用工艺：CMSD研磨分散机适用于高经细度的分散、均质、乳化、混合、破碎、速度快、效率高、效果好。详询上海依肯 徐工
CMSD2000系列石墨烯改性硅基负材料研磨分散机设备选型表：
| 型号 | 流量 L/H | 转速 rpm | 线速度 m/s | 功率 kw | 入/出口连接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
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