IKN消光用二氧化硅胶体磨CMSD2000
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详细内容
二氧化硅消光粉外观为白色分散性粉末状或颗粒状,广泛应用于涂料工业。通过对其粒径大小、粒径分布和表面性能的控制,消光粉能够为不同的涂料和印刷油墨提供出色的哑光效果。优质消光粉具有很高的消光效率和爽滑的表面手感,平均粒径小且集中。

IKN在传统胶体磨基础上改进,不仅使转速由原来的3000转提升到了14000转,甚至是21000转的超高转速,细碎效果更好,作用效率更快,同时在结构是除了原本有的细碎研磨功能以外,更增设了高速离心分散功能,使物料在细碎过后能够更加稳定的分散,不分层,不沉淀.IKN改进型胶体磨依靠定转子间间隙(间隙可调)使物料在通过研磨区域使受到强大的机械力、液力剪切、高频振动等多重力的物理作用,被高效快速的剪切剥离、分散、粉碎,随后进过第二高速剪切分散盘再一次剪切细化分散、匀化,达到物料超细粉碎和分散匀化的效果。
IKN消光用二氧化硅胶体磨设备特点:
1、耐有机溶剂、耐腐蚀;
2、材质为316L不锈钢;
3、设备定转子(研磨分散工作腔体)间间隙可调,粒度可控;
4、设备整体机身夹套设计,高转速产生的热量可以通过外接冷却设备进行控温;
5、主轴与电机分体设计,用户可根据需要选择适当的转速;
6、设备为变频调速,可通过变频控制柜合理准确的调节设备转速;
7、可灵活设计生产过程中的特殊需求(设备表面光洁度、真空、防爆、设备材质);
8、从实验室设备平稳过渡到中试型实验以及后期的工业化放大实验,无需重新调整实验数据,大程度降低了风险
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影响研磨效果因素:
决定研磨效果的有几个主要因素:被研磨物体材料的性质,磨料的物理特性,粘结剂的粘结强度,研磨压力及研磨的运动速度,研磨设备结构设计,研磨设备精密程度,研磨的时间。

多功能研磨分散设备的应用域:
①食品工业:果茶、冰淇淋、月饼馅、果酱、果汁、豆酱、豆沙、花生奶、乳制品,麦乳精、各种饮料等。
②化学工业:油漆、颜料、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、洗涤剂、玻璃钢、二氧化硅等。
③日用化工:牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高化妆品、沐浴精、肥皂、香脂等。
④医药工业:各型糖浆、中成药、生物制品、蜂皇浆、疫苗、药膏、口服液、针剂等。
⑤建筑工业:各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工业:塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、纳米材料,新材料、复合材料等行业优质环保的生产需要。
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