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上海依肯机械设备有限公司 主营产品:纳米乳化机/纳米分散机/纳米均质机/纳米胶体磨/纳米研磨机/湿法粉碎机/纳米锥体磨/高剪切研磨分散机/粉液混合机/固液混合机/真空乳化均质机/实验室匀浆机

第5年

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技术文章

食品胶高速体磨,管线式高速胶体磨,管线式匀浆胶体磨,高速谷物粉碎胶体磨

点击次数:2770 发布时间:2023/6/24 22:04:46

食品胶高速体磨,管线式高速胶体磨,管线式匀浆胶体磨,高速谷物粉碎胶体磨
高速胶体磨, 线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆锥形,具有精细度递升的三组锯齿凸起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每都可以改变方向。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。被加工的物料通过本省的重量或者外部的压力(可有泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,通过高速胶体磨定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优良材料,可以满足不同行业的多种需求。


影响胶体磨研磨分散结果的因素有以下几点:
1 研磨和分散头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)
2 研磨和分散头的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)
4 物料在研磨分散腔体的停留时间,研磨均质时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)
5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)
CMSD2000系列胶体磨参数选型表

胶体磨

流量

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

CMSD2000/4

300

14,000

41

4

DN25/DN15

CMSD2000/5

1000

10,500

41

11

DN40/DN32

CMSD2000/10

4000

7,200

41

22

DN80/DN65

CMSD2000/20

10000

4,900

41

45

DN80/DN65

CMSD2000/30

20000

2,850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%

食品胶高速体磨,管线式高速胶体磨,管线式匀浆胶体磨,高速谷物粉碎胶体磨

原创作者:上海依肯机械设备有限公司

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