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技术文章
如何选择氢氧化镁阻燃剂改性处理设备，研磨分散机，湿法粉碎机，湿磨机，研磨机，胶体磨
点击次数：2826 发布时间：2023/5/30 13:11:08
纳米氢氧化镁的用途非常广泛，是一种新型的阻燃剂，我们来了解下纳米氢氧化镁为什么要做改性处理？
先，纳米氢氧化镁的平均粒径小，粒径分布范围宽，在0.5-8μm之间；容易团聚形成粒径为10-100μm的二次粒径，和聚合材料的界面形成空隙，阻碍氢氧化镁在聚合物材料中的分散。
其次，晶体的微管内应增大，意味着表面性强，且带有正电荷，具有亲水性。如此一来，即使在氢氧化镁被干燥之后，晶体内仍存在不可忽视的水分，难以和高分子材料相容，对材料的机械强度产生严重影响。因此，高分子聚合材料采用常温合成的纳米氢氧化镁呈现的阻燃效果并不理想，还会大大降低材料的力学性能和强度。
另外，由于纳米氢氧化镁的比表面积比较大，有机聚合物中的添加量至少要大于60%才可以得到一定的阻燃效果。同时，过大的添加量可能降低聚合物材料的机械性能与物理性能，尤其是弯曲强度、抗张强度等机械强度的变化。为了制得阻燃的纳米氢氧化镁，需要对其进行改性处理。
氢氧化镁新型填充型阻燃剂湿法粉碎机工作原理：上海依肯CMSD2000系列湿法粉碎机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品，先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子，好的表面处理和优良的材料，可以满足不同行业的多种需求。通过湿法粉碎机定转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效的乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及乳化的效果，出料粒径可以微纳米。
影响研磨粉碎均质结果的因素有以下几点
1 研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）
2 研磨头的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机，流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好）
线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-转子 间距 (m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
CMSD2000系列氢氧化镁新型填充型阻燃剂湿法粉碎机选型表
| 型号 | 流量L/H | 转速rpm | 线速度m/s | 功率kw | 入/出口连接DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到大允许量的10%
原创作者：上海依肯机械设备有限公司
