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上海依肯机械设备有限公司 主营产品:纳米乳化机/纳米分散机/纳米均质机/纳米胶体磨/纳米研磨机/湿法粉碎机/纳米锥体磨/高剪切研磨分散机/粉液混合机/固液混合机/真空乳化均质机/实验室匀浆机

第5年

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技术文章

氢氧化镁新型填充型阻燃剂湿法粉碎机,高聚物基复合材料氢氧化镁湿磨机,无机阻燃填料研磨分散机,研磨机

点击次数:2764 发布时间:2023/5/30 12:56:08

氢氧化镁新型填充型阻燃剂湿法粉碎机,高聚物基复合材料氢氧化镁湿磨机,无机阻燃填料研磨分散机,研磨机


氢氧化镁是一种新型填充型阻燃剂,通过受热分解时释放出结合水,吸收大量的潜热,来降低它所填充的合成材料在火焰中的表面温度,具有抑制聚合物分解和对所产生的可燃气体进行冷却的作用。
氢氧化镁是一种应用景好的高聚物基复合材料
的无机阻燃填料。与氢氧化铝一样,氢氧化镁阻燃剂是依靠受热时化学分解吸热和释放出水而起到阻燃作用的,因此具有无毒、低烟及分解后生成的氧化镁化学性质稳定,不产生二次污染等优点。但是,与含卤有机阻燃剂相比,要达到相当的阻燃效果,填充量一般要达到50%以上。由于氢氧化镁为无机物,表面与高聚物基料的相容性较差,如此高的填充量,如果不对其进行表面改性处理,填充到高聚物材料中后,将导致复合材料的力学性能下降。因此,必须对其进行表面改性处理,以改善其与高聚物基料的相容性,使填充材料的力学性能不下降,甚至使材料的部分力学性能有所提高。

实验证明,未经改性的氢氧化镁在PP中以团聚体的形式存在,虽然粉体本身细,但由于颗粒表面与PP基体不相容,颗粒团聚体与PP基体之间存在明显的界限甚至空洞。因脆断时氢氧化镁颗粒逃逸后形成的空洞,说明未改性的氢氧化镁在PP中只是起到一个填充阻燃的作用,而不与PP发生化学键合。经过表面改性的氢氧化镁在PP基体中分散均匀,颗粒大都以原颗粒或小团聚颗粒的形式分散存在于材料中。
氢氧化镁新型填充型阻燃剂湿法粉碎机,高聚物基复合材料氢氧化镁湿磨机,无机阻燃填料研磨分散机,研磨机

氢氧化镁新型填充型阻燃剂湿法粉碎机工作原理:上海依肯CMSD2000系列湿法粉碎机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品,先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优良的材料,可以满足不同行业的多种需求。通过湿法粉碎机定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果,出料粒径可以微纳米。





影响研磨粉碎均质结果的因素有以下几点

1 研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2 研磨头的剪切速率 (越大,效果越好)

3 研磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4 物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60

CMSD2000系列氢氧化镁新型填充型阻燃剂湿法粉碎机选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。
流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%

氢氧化镁新型填充型阻燃剂湿法粉碎机,高聚物基复合材料氢氧化镁湿磨机,无机阻燃填料研磨分散机,研磨机

原创作者:上海依肯机械设备有限公司

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