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上海依肯机械设备有限公司 主营产品:纳米乳化机/纳米分散机/纳米均质机/纳米胶体磨/纳米研磨机/湿法粉碎机/纳米锥体磨/高剪切研磨分散机/粉液混合机/固液混合机/真空乳化均质机/实验室匀浆机

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技术文章

染料木素混悬液制备设备胶体磨,混悬液制备工艺,混悬液制备技术

点击次数:2775 发布时间:2023/5/22 17:30:48

染料木素混悬液制备设备胶体磨,混悬液制备工艺,混悬液制备技术,纳米混悬液胶体磨,医药混悬液高速胶体磨

染料木素(Genistein,GNS)是一种天然的异黄酮类化合物,其作为典型的植物雌性激素具有广泛的药理学作用,如抑制酪氨酸和拓扑异构酶活性、诱导细胞凋亡、抑制破骨细胞和淋巴细胞功能、抗骨质疏松症、降低心血管疾病发作的风险、缓解绝经后的问题、以及降低患乳腺癌、列腺癌和肺癌的风险等,是具发展潜力的药物。GNS易溶于二甲基亚砜、甲醇等有机溶剂,但其难溶于水,溶出度低,口服生物利用度低。目已有报道将染料木素制备成固体分散体、固体脂质体、纳米晶体、纳米乳等制剂从而提高其在体内的生物利用度。
纳米混悬液是一种含稳定剂的纯药物粒子的亚微米胶体分散体。通过研磨或者晶体析出的方式使难溶性药物粒子的粒径达到亚微米甚至毫微米,从而提高药物比表面积,进而提高难溶性药物的溶出度、溶出速率以及生物利用度。除此之外,将纳米混悬液固化后还能提高制剂的载药量和物理化学稳定性。根据纳米粒子形成原理的不同,纳米混悬液的制备方法主要有沉淀法、机械研磨法和高剪切均质法。

上海依肯CMSD2000系列改进型胶体磨是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品,先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和较好材料,可以满足不同行业的多种需求。通过改进型胶体磨定转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果,出料粒径可以微纳米。


影响研磨粉碎均质混合结果的因素有以下几点

1 研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2 研磨头的剪切速率 (越大,效果越好)

3 研磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4 物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60

CMSD2000系列染料木素混悬液胶体磨选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%

染料木素混悬液制备设备胶体磨,混悬液制备工艺,混悬液制备技术,纳米混悬液胶体磨,医药混悬液高速胶体磨

原创作者:上海依肯机械设备有限公司

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