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上海依肯机械设备有限公司 主营产品:纳米乳化机/纳米分散机/纳米均质机/纳米胶体磨/纳米研磨机/湿法粉碎机/纳米锥体磨/高剪切研磨分散机/粉液混合机/固液混合机/真空乳化均质机/实验室匀浆机

第5年

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技术文章

一种解决高浓度浆料研磨分散机,高浓度浆料均质研磨分散设备,高粘度物料研磨式分散机

点击次数:2769 发布时间:2023/5/17 16:12:00

一种解决高浓度浆料研磨分散机,高浓度浆料均质研磨分散设备,高粘度物料研磨式分散机

研磨分散机是粉体制备的关键设备,通常应用于涂料、化工、医药、电子、食品生物、能源、采矿等行业。采用机械方式研磨分散是目工业上大批量制备粉体材料的重要方式。
现有技术中的研磨分散机研磨的速度较低,研磨的均匀性较差,从而降低了该装置的工作效率,增加了工作时间,因此需要一种解决高浓度浆料研磨分散机来解决上述所出现的问题。
上海依肯IKN研发工程师针对以上问题,结合多年来丰富的行业经验,特别研制IKN-CMSD2000系列研磨分散机,CMD2000系列改进型胶体磨研磨式分散机是由胶体磨和分散机组合而成的高科技产品,先锥形研磨头具有精细度递升的多锯齿凸起和凹槽。定转子间隙可以根据需要无限制调整间隙。第二组由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度物质以及颗粒粒径的需求。整机采用佳的几何机构的研磨定转子,好的表面处理和优良材料,可以满足不同行业的多种需求。

影响研磨分散结果的因素有以下几点

1 研磨头的形式(批次式和连续式)(连续式比批次好)

2 研磨头的剪切速率 (越大,效果越好)

3 研磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

4 物料在分散墙体的停留时间,乳化分散时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

5 循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

– 转子的线速率

– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(转子直径)X 转速 RPM / 60

CMSD2000系列研磨分散机选型表

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150

表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,可以被调节到大允许量的10%

一种解决高浓度浆料研磨分散机,高浓度浆料均质研磨分散设备,高粘度物料研磨式分散机

原创作者:上海依肯机械设备有限公司

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